일반기술

점착방지막이 증착된 스탬프 및 이를 이용한 나노 패턴 전사 방법

나노 임프린트와 포토리소그라피 공정을 접목시킨 Combined Nanoimprint & Lothography (CNP) 방법에 있어서, 패턴이 형성된 투명 기판의 일부에 금속막이 도포되어 이루어진 하이브리드 마스크 몰드(HMM) 위에 점착 방지막이 전면적으로 도포된 점착방지 HMM (AHMM) 스탬프를 이용하면 패턴 전사 과정에서 AHMM 스탬프와 기판의 분리를 용이하게 하여 스탬프의 패턴을 온전하게 기판으로 전사할 수 있다. 본 발명에 의하여 제작된 AHMM 스탬프를 이용하여, 스탬프 위에 자기조립막을 코팅하여 스탬프와 기판을 기계적으로 임프린팅하고 또한 UV를 조사하여 전사층을 경화시키고, 스탬프와 기판을 분리하여 현상액으로 전사층을 제거하는 과정을 거쳐서 스탬프의 패턴을 기판에 결점없이 패턴을 전사할 수 있다.본 발명은 기존 발명에 비해서 투과방지막을 도포함으로써 기존의 포토리소그라피 공정을 나노 임프린트에 접속한 것이며, 점착방지막을 스탬프에 증착함으로써 기판과 스탬프의 분리를 용이하게 하여 결점없는 패턴 전사를 이룰 수 있음. 그리고 본 발명에 의하여 제작된 AHMM 스탬프는 스탬프 위에 도포할 자기조립막의 성질을 더욱 소수성으로 바꿀 수 있다. 이러한 소수성 특성은 CMP 방법에 의하여 전사층이 도포된 기판에 스탬프의 패턴을 전사할 때, 결함없는 패턴을 전사할 수 있다는 장점을 지니고 있다.