일반기술

저에너지 원자력 힘 현미경을 이용한 유기물 및 금속 박막의 나노 패턴 제조 방법

본 발명은 저에너지 원자력 힘 현미경(atomic force microscope, AFM)의 전자 조사 (electron radiation)를 이용하여 유기물 레지스트의 패턴닝 및 식각 단계를 통하여 금속 박막을 패턴닝 하는 것으로서, 더욱 상세하게는 탐침(-)과 기판(+) 사이의 인가된 전기장 (electron field)에서 전자가 유기물 레지스트에 조사 (radiation) 됨에 따라, 유기물 레지스트의 물성 변화 및 현상 (develop) 단계를 통한 유기물 레지스트가 패터닝 되고, 그 후 패터닝 된 유기물 레지스트를 바탕으로 금속 박막을 식각 하는 금속 박막의 패턴 제조에 관한 것이다. 본 발명은 낮은 에너지의 전자 조사 (electron exposure)를 통하여 패턴의 손상을 최소화 할 수 있으며, 또한 수 nm의 선폭의 유기물의 패터닝 및 금속 박막의 패터닝을 통하여 소자의 소형화와 고 집적화를 이룩할 수 있는 저에너지 원자력 힘 현미경 시스템을 이용한 유기물 및 금속 박막의 나노 미세 패턴 제조 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 저 에너지를 사용한 원자력 힘 현미경 시스템을 이용하여, 반도체 공정에서의 리소그래피 단계에서 낮은 에너지를 이용하여 에너지 절약은 물론 수 nm 의 선폭을 가진 유기물 박막 패턴 뿐만 아니라, 이러한 나노 선폭의 유기물 레지스트를 바탕으로 건식 식각 및 리프트 오프 공정을 통하여 금속, 세라믹 등의 패터닝의 무기 패턴도 가능하며 반도체 소자와 초박막 패턴 응용분야에 활용될 수 있는 정보통신 분야에 응용될 수 있는 중요한 원천요소 기술이 될 수 있다.