일반기술
부화소 마스크 생성 회로
본 발명은 부화소 마스크 생성장치에 관한 것으로, 본 발명의 목적은 3차원 그래픽스 가속기에서 부화소 마스크를 사용하여 앤티알리아스드(Antialiased) 묘화를 하고자 할 경우에 부화소 마스크를 작은 크기의 하드웨어를 사용하여 효과적으로 생성할 수 있는 부화소 마스크 생성장치를 제공하는데 있다. 한 개의 메모리에 1사분면에 대한 롬 참조표 값만을 저장하여 이를 이용해 모든 영역에 대한 부화소 마스크를 생성하도록 함으로써, 하드웨어의 수를 획기적으로 감소시킨 부화소 마스크 생성장치를 제공한다. 또한, 변 함수에서 선분을 경계로 서로 다른 쪽은 항상 반전된 마스크가 생성되도록 한 부화소 마스크 생성장치를 제공한다.
기술정보
- 기술분류
- 정보 > 컴퓨터 주변기기
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2000-04-24
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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