일반기술

구조인자 조절을 통한 극자외선 노광공정용 Ｍｏ/Ｓｉ 반사형 다층박막

*원리 및 구성극자외선 노광 공정에 적용하기 위한 반사도가 우수한 반사형 다층 박막 미러의 제조 방법을 제시한다. 반사형 다층 박막 미러는 반도체 기판 상에 몰리브덴층과 실리콘층을 순차적으로 형성한 이중 구조를 40주기 반복하여 적층하여 형성하되, 적층 구조 최하위의 제1층, 제3층 및 제5층의 몰리브덴층 중 적어도 하나 이상의 몰리브덴층을 2.9~3.3㎚ 의 두께로 형성하며, 이때, 적층 구조의 제6층 이상의 몰리브덴층은 2.7~2.9㎚ 의 두께로 형성하고 상기 실리콘층은 3.9~4.1㎚ 의 두께로 형성한다. *중요성 및 독창성반사형 다층 박막 미러에 의하면 구조인자의 단순한 변경만으로 미러 제조를 위한 고가의 물질을 도입하지 않고도 고반사율의 극자외선용 다층 박막 미러를 제작할 수 있다는 점에서 중요성을 지닌다.*특징 및 장점자외선 노광용 반사형 미러로서 Mo/Si의 2층 구조로 이루어진 단위층을 다수 증착한 다층박막의 하부층 구조인자를 변화시킴으로서 비교적 손쉽게 극자외선 영역의 빛에 대해 고반사율을 갖는 다층박막 미러를 제작하였다. 기판 위에 Mo/Si의 2층 구조로 이루어진 단위층을 다수 증착한 다층박막으로 구성되며, 그 다층박막의 하부층의 구조인자를 변화시킴으로서 극자외선 영역의 빛에 대해 기존의 일정한 구조인자를 가지는 다층박막에 비해 고반사율을 갖는 것이 특징이다.*적용응용분야 및 시장성계속적인 기술 개발로 극자외선 노광공정은 차세대 노광공정으로 더욱 더 그 기대치가 커지고 있고, 실제 생산공정에서 2005년을 전후하여 차세대 노광공정의 도입이 예상된다.