일반기술

DTPA-비스(피콜린아미드)리간드, 이를 포함하는 가돌리늄 착물 및 이들의 제조방법

본 발명은 DTPA-비스(피콜린아미드) 리간드 및 DTPA-비스(피콜린아미드) 리간드의 가돌리늄 착물에 관한 것으로서, 본 발명의 DTPA-비스(피콜린아미드)리간드는 양 말단기에 피리딘 유도체를 포함하고 있기 때문에 두 개 이상의 금속(가돌리늄 등)을 고정시킬 수 있는 이점을 갖는다. 본 발명의 DTPA-비스(피콜린아미드)리간드는 기존의 DTPA-비스아미드류 리간드와 달리 양 말단기에 피리딘 유도체를 포함하고 있기 때문에 두 개 이상의 금속을 고정시킬 수 있는 이점을 갖고, 따라서 보다 우수한 상자성 및 자기 이완 효과를 얻을 수 있다. 본 발명의 DTPA-비스(피콜린아미드)리간드는 기존의 DTPA-비스아미드류 리간드와 달리 양 말단기에 피리딘 유도체를 포함하고 있기 때문에 두 개 이상의 금속을 고정시킬 수 있는 이점을 갖고, 따라서 보다 우수한 상자성 및 자기 이완 효과를 얻을 수 있다. 조영제로서 Gd금속을 하나 이상 포함할 수 있는 다핵 금속 착물이 가능하여, 같은 농도에서 기존의 조영제에 비해 상자기성이 월등하게 향상될 것으로 기대된다. DTPA-비스(아미드)를 포함하는 다핵 전이금속 착물의 제조까지 가능하게 되었다.