일반기술

광굴절재료의 이득계수 측정장치

*원리 이 기술은 광굴절재료(photo-refractive material)의 이득계수를 측정하는 장치에 관한 것으로, 특히 위상회절격자를 이용하여 광굴절재료에 간섭패턴을 발생시켜 광굴절재료의 성능을 평가하는 이득계수를 측정하는 장치이다. *특징 및 독창성기존의 장치는 간섭계를 이용하였는데 반해 이 기술은 위상 회절격자(Phase grating)를 이용하여 광의 간섭패턴을 발생시킨다. 광세기 변조는 재료의 굴절률 변조를 유도한 것이고, 이는 다시 회절된 빔의 광세기를 변화시키는데, 이를 측정하여 이득계수를 구한다. 장치의 단순화로 크기를 축소시킬 수 있으며, 외부 환경으로부터의 영향을 대폭 감소시켰다.*기대효과이 기술에 따른 광굴절재료의 이득계수 측정장치에 의하면 다음과 같은 효과가 있다. 1. 종래 광의 간섭패턴을 만드는데 사용되는 종래의 광학 재료(두개의 미러, 한 개의 빔스프리터)를 하나의 위상회절격자를 사용함으로써, ①장치의 간소화를 통해 설치하는데 필요한 공간을 수 배 정도로 감소시킬 뿐 아니라 광학에 관련이 없는 분야의 종사자도 쉽게 사용할 수 있고, ②외부 환경에 영향을 덜 받아 광학테이블과 같은 설비가 갖추어 지지 않은 장소에서도 쉽게 광굴절 재료의 이득계수를 측정을 할 수 있게 된다. 2. 위상회절격자를 이용함으로써, 빔이 나눈 위치와 간섭이 발생하는 위치 사이의 거리가 극히 줄어들어, 두 빔의 경로차가 외부의 영향에 따라 달라지기 어렵게 되어, 이득계수의 측정에 신뢰할 수 있다.*적용분야-광굴절 무기 단결정 및 유기 고분자 재료의 성능 평가-기존 장치는 설치하는데 진동과 공기를 차단할수 있는 장소를 필요로 하였으나 이 기술은 이러한 단점을 제거, 장치를 단순화하여 상용화 가능성을 높였다.