일반기술

면광 발생 장치 및 그를 이용한 면광 발생 방법

* 구성 및 원리 본 기술은 빔 프로젝트나 비전 검사 장치 또는 노광 장치에 이용되는 광 발생 장치의 광원으로 발산각이 크고 고간섭성 및 균일한 면광을 발생시킬 수 있도록 하는 면광 발생 장치 및 그를 이용한 면광 발생 방법에 관한 것이다. 본 기술의 구성은 다음과 같다. 빔 프로젝트나 비전 검사 장치 또는 노광 장치에 구비되어 피사체에 광을 조사하는 광 발생 장치에 있어서, 간섭 특성이 우수한 광을 발생하는 레이저 광원과, 상기 레이저 광원으로부터 출사되는 레이저 빔의 직경을 확대시켜 출사시키는 빔 확장 렌즈와, 상기 빔 확장 렌즈로부터 출사되는 레이저 빔으로부터 광속을 분리하고 발산각을 크게 하기 위한 대물 렌즈와, 상기 대물 렌즈 표면 또는 레이저 빔의 출사창의 먼지나 이물에 의한 얼룩과 산란을 제거하며 레이저 빔의 회절에 의한 간섭 무늬 경계를 모호하게 하기 위한 핀 홀이 형성된 핀 홀 마운트, 및 상기 핀 홀을 통과한 레이저 빔의 필요 영역만 자르거나 레이저 빔을 유도하기 위한 빔 가이드를 포함하여 이루어진다. * 기술개발 배경 액정프로젝터는 소형 경량화, 고휘도화, 고개구율과 고해상도를 기본 축으로 발전하고 있으며, 이를 위해 광원으로 사용되는 램프가 작은 발광 크기를 갖도록 개선되고 있고, 광원으로부터 발생한 광을 하나의 선편광으로 변환하는 편광 변환계와 고개율을 갖는 액정패널을 채용하여 광효율이 향상되게 하고 있다. 그런데, 이러한 노력에도 불구하고 프로젝터는 여전히 음극선관과 같은 선명한 화상을 제공하지 못하므로 광효율을 더욱 향상시켜야하는 과제를 안고 있다. 본 기술은 이러한 문제를 해결하기 위하여 개발되었다.* 적용제품 및 관련시장 본 기술의 면광 발생 장치 및 그를 이용한 면광 발생 방법은 빔 프로젝트나 비전 검사 장치 또는 노광 장치에 구비되어 피사체에 광을 조사하는 광 발생 장치 분야에 적용될 것이며, 기술적으로 우수하고 독창적이어서 시장에서 매우 유용하게 쓰일 것으로 예상된다. * 특징 및 장점 본 기술은 다음과 같은 특징 및 장점이 있다. 첫째, 간섭 특성이 우수한 헬륨 네온이나 반도체 레이저를 광원으로 용하고, 광원으로부터 출사되는 레이저빔을 빔 확장 렌즈로 확장 시켜 대물 렌즈로 입사시키고 대물 렌즈를 이용하여 레이저 빔으로부터 광속을 분리하고 발산각을 얻으며, 핀 홀을 이용하여 대물 렌즈의 표면 또는 광원 출사창의 먼지나 이물에 의한 얼룩과 산란을 제거하며 빔의 회절에 의한 간섭 무늬 경계를 매끄럽게 한 후 빔 가이드를 이용하여 레이저 빔의 필요한 영역만을 잘라 피사체에 유도시킴으로써, 레이저 빔 불균일에 의한 얼룩 없이 균일하며 간섭성이 뛰어난 면광원을 발생시켜 결함의 크기나 종류에 관계 없이 결함 검출 효율 및 정밀도를 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 둘째, 면광원 발생장치와 피사체와의 거리 및 피사체와 스크린과의 거리에 따라 원하는 확대 비율을 획득할 수 있게 됨에 따라, 거리를 멀리하여도 상이 흐려지거나 왜곡되지 않도록 하여 검사 신뢰성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.