일반기술

함불소 화합물 처리 시스템

본 발명은 반도체 제조공정상의 에칭, 화학증착(CVD) 및 장비 세정용으로 쓰이는 가스인 함불소 화합물을 함유하고 있는 배출가스의 함불소 화합물 처리시스템에 관한 것이다. 본 발명은 필터, 분리막(membrane)을 이용한 산소부화장치, 가스혼합실, 이중관형 연소실, 배기 처리장치 및 온도, 유량등을 제어하는 전자 제어장치 등의 주요 부품으로 구성되며, 연료와 공기 및 연료와 함불소 화합물 가스를 예혼합실에서 미리 혼합하여 분리막을 이용하여 공기 중의 산소의 농도를 증가시켜 연소용 공기로 이용하여 화염의 온도를 최소 1300 ℃ 이상으로 상승시켜 효율적인 고온 화염을 유도하고, 연소실의 구조를 외관과 내관으로 구성된 이중관형 연소실로 형성함으로써 화염의 체류시간을 연장하여 함불소 화합물 가스의 분해율을 극대화할 수 있고, 배기 가스 출구 부분에 촉매를 부착하여 다량의 질소 산화물(NOx)을 환원시켜 질소 산화물의 배출 농도를 최소화할 수 있는 효과가 있다. 본 발명은 연료와 공기 및 연료와 함불소 화합물 가스를 예혼합실에서 미리 혼합하여 분리막을 이용하여 공기 중의 산소의 농도를 증가시켜 연소용 공기로 이용하여 화염의 온도를 최소 1300 ℃ 이상으로 상승시켜 효율적인 고온 화염을 유도하고, 연소실의 구조를 외관과 내관으로 구성된 이중관형 연소실로 형성함으로써 화염의 체류시간을 연장하여 함불소 화합물 가스의 분해율을 극대화할 수 있는 효과가 있다. 또한, 본 발명은 배기 가스 출구 부분에 촉매를 부착하여 다량의 질소 산화물(NOx)을 환원시켜 질소 산화물의 배출 농도를 최소화할 수 있는 효과가 있다.