일반기술

광변조장치의 제조방법

본 발명은 회절격자 구조에 의거하는 표면 플라즈몬 공명 광변조장치의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 패턴 마스크를 이용하여 금속막과 유전체의 계면에 단일, 다수 및 다중의 회절격자를 용이하게 구현하기 위한 목적을 가지며, 기판 상면에 금속막을 증착하는 제 1 증착단계; 상기 금속막 앞에 패턴 마스크를 설치하고, 다시 금속을 증착하여 회절격자를 형성하는 제 2 증착단계; 그리고 상기 회절격자 상부에 전기광학물질막과 투명전극을 순차 적층 형성하는 단계로 실현됨을 특징으로 한다. 이상에서 설명한 본 발명의 실시 형태를 통하여 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 광변조장치의 제조방법은 패턴 마스크를 이용하여 금속막과 유전체의 계면에 단일, 다수 및 다중의 회절격자를 용이하게 구현하는 효과를 얻을 수 있다. 따라서 본 발명에 의하면, 고 굴절 프리즘을 이용하는 기존의 방식의 문제점을 해결할 수 있으며, 미세 회절격자결합 표면 플라즈몬 공명을 응용한 광변조 시스템을 구현할 수 있다. 또한 본 발명에 의하면, 기존의 고굴절 프리즘이 요구되는 Kretschmann형 표면 플라즈몬 광변조기에 비해 낮은 제조단가로 단순화, 소형화, 고집적화, 대량생산을 용이하게 실현하는 효과를 얻을 수 있다. 이러한 본 발명의 기술은 초고속 광스위치, 광변조기, 공간-광변조기, 광인터컨넥트, 광 필터, 디스플레이 제조에 이용할 수 있으며, 이를 통한 광통신 및 정보전자분야의 다양한 부품제조에 크게 응용할 수 있다.