일반기술

다중층 마이크로 렌즈 제조 방법

본 발명은 빛이 통과하지 못하는 형성된 차단영역의 형태가 원형인 제1 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시켜 노광한 후 현상하여 원기둥 형태를 가진 포토 레지스트를 얻고, 상기 현상된 기판에 대해 리플로우 공정을 수행하여 상기 포토 레지스트를 구면 렌즈 형태로 만들며, 상기 구면 렌즈 형태가 음각된 제1 스탬퍼를 제작하고 상기 제1 스탬터를 이용하여 상기 구면 렌즈 형태가 양각된 제2 스탬퍼를 제작하며, 상기 제1 마스크에 형성된 상기 차단영역의 크기 보다 작은 차단 영역을 가진 제2 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 제2 스탬퍼 상에 정렬시켜 노광/현상한 후 리플로우 공정 처리하여 상기 구형 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 음각으로 하는 제3 스탬퍼를 제작한다. 그리고 상기 제3 스탬퍼를 금형으로 상기 구형 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 양각으로 하는 렌즈 제품을 사출한다.상술한 설명에 따르면 본 발명은 본 발명은 반도체 공정을 이용하여 제조함으로써 정밀성을 향상시켜 마이크로 단위의 렌즈를 만들 수 있는 효과가 있다. 또한 본 발명은 제조 공정이 간단하여 제조 원가를 줄일 수 있는 효과가 있다. 또한 본 발명은 다양한 형태를 가진 다중층 마이크로 렌즈 및 마이크로 렌즈 어레이를 제공하는 효과가 있다.( 본 발명은 빛이 통과하지 못하는 형성된 차단영역의 형태가 원형인 제1 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시켜 노광한 후 현상하여 원기둥 형태를 가진 포토 레지스트를 얻고, 상기 현상된 기판에 대해 리플로우 공정을 수행하여 상기 포토 레지스트를 구면 렌즈 형태로 만들며, 상기 구면 렌즈 형태가 음각된 제1 스탬퍼를 제작하고 상기 제1 스탬터를 이용하여 상기 구면 렌즈 형태가 양각된 제2 스탬퍼를 제작하며, 상기 제1 마스크에 형성된 상기 차단영역의 크기 보다 작은 차단 영역을 가진 제2 마스크를 포토 레지스트가 코팅된 제2 스탬퍼 상에 정렬시켜 노광/현상한 후 리플로우 공정 처리하여 상기 구형 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 음각으로 하는 제3 스탬퍼를 제작한다. 그리고 상기 제3 스탬퍼를 금형으로 상기 구형 렌즈 상에 형성된 포토 레지스트로 이루어진 이중층 형태를 양각으로 하는 렌즈 제품을 사출한다.)