일반기술
질소 반응성 스퍼터링을 이용한 거대자기저항 재료 개발
하드디스크 드라이브 재생용 GMR 헤드 제작 공정, 질소 스퍼터링을 이용한 loe saturation field 및 high sensitivity 재료 및 공정
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 전기·전자기 기능재료
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2000-04-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.
일반기술
하드디스크 드라이브 재생용 GMR 헤드 제작 공정, 질소 스퍼터링을 이용한 loe saturation field 및 high sensitivity 재료 및 공정
정보 없음
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