일반기술

단일 공정을 통해 ＩＴＯ 유리 표면에 아민기 함유분자층을 형성하는 방법

본 기술은 ITO 유리 표면에 소량 존재하는 친핵성 작용기인 히드록시기와 아지리딘 또는 아지리딘 동등체(equivalent)를 직접 반응시킴으로써 단일공정을 통해 기질 표면에 높은 밀도의 아민기를 가지는 분자 층을 도입하는 방법에 관한 것으로,본 기술에 의하면 ITO 유리 표면에 아민기를 포함하는 분자 층을 간편하게 도입할 수 있으므로 생체 분자를 포함하는 많은 분자들을 표면에 화학결합을 통해 부착시킬 수 있고, 단백질 칩 등 대부분의 생체 분자 칩을 제작하는데 있어 기본적인 기술을 제공할 수 있으며, 표면에서의 분자 특성 연구에도 중요한 역할을 할 수 있다.또한 본 기술은 차세대 디스플레이로 각광받고 있는 유기 EL 또는 고분자 EL의 기판으로 사용되는 ITO 유리 표면에 화학결합을 통해 유기분자를 부착할 수 있는 방법을 제공한다.본 기술에 따르면,1)ITO 유리에 아민기 함유 분자층을 안정되게 형성시킬 수 있으며,2)이와 같이 아민기 함유 분자층이 형성된 ITO 유리는, 바이오칩을 비롯한 생체 분자가 결합되어 있는 모든 칩을 개발하는데 매우 중요한 기판으로서 제공되고,3)기판 표면에 원하는 분자들을 고정하고, 이들의 성질, 특히 전기적인 특성을 밝히는 표 면 연구에도 중요한 전극 기판으로 제공될 수 있다.4)또한, EL 소자를 만드는데 있어 빛을 낼 수 있는 고분자를 ITO 유리 표면에 화학결합 을 통해 결합시킴으로써 고분자 박막의 안정성을 높일 수 있으며,5)표면에 도입된 고분자의 일함수도 커져 그 효율이 향상된 EL 소자를 제공할 수 있다.