일반기술

신소재 표면 처리 공정 최적화 기술

국내 산업체에서 제작하는 다양한 신소재의 표면 화학 조성을 TOF-SIMS로 측정하여, 표면 처리 공정의 적합화, 공정시의 표면 오염 정도 판독, 원재료의 이상 유무 등을 판별함으로써, 신소재의 표면처리 공정을 최적화하고, 제품의 부가 가치를 높일 수 있는 기술입니다. 상세한 내용은 신소재 표면 화학 조성 측정법, 신소재 표면 오염 정도 판별법, 신소재의 원재료 적합성 판별법 등이 있다. 신소재의 표면 1 nm 이내의 표면 화학 조성을 ppb 정도의 농도도 측정 가능한 기술로, 국내 고부가 가치 신소재 개발에 크게 기여할 것이라고 기대함. 신소재 표면 화학 조성 측정법, 신소재 표면 오염 정도 판별법, 신소재의 원재료 적합성 판별법 등이 있다. 제품의 부가 가치를 높일 수 있는 기술입니다. 신소재의 표면 1 nm 이내의 표면 화학 조성을 ppb 정도의 농도도 측정 가능한 기술로, 국내 고부가 가치 신소재 개발에 크게 기여할 것이라고 기대함. 유리섬유, 메탈 합금류, 고분자 등의 모든 다양한 신소재의 표면 처리 공정의 최적화 및 표면 오염 물질의 확인 및 정도의 판별 및 원자재 적합성 판별이 필요한 분야.