일반기술

저압력 가스 분석을 위한 시스템 구축 기술

진공 시료가스는 총량이 적거나 압력이 낮아서 일반적인 가스분석인 GC 또는 전용 분석기에 의한 측정이 불가능하다. 따라서 저진공 상태의 시료를 처리하고 측정할 수 있는 주입시스템과 분석 검출기가 필요하다. 본 기술은 압력 및 부피가 조절되는 inlet system을 통하여 분자의 이온화가 발생하는 질량분석기로 정량적으로 가스 시료를 주입하여 저 진공 가스 조성 성분의 분압을 정량적으로 측정하는 장치제작에 대한 기술이다. - 24V DC 전압에 의하여 개폐가 조절되는 밸브를 통하여 1cc 이하의 일정 시료를 취할 수 있도록 sampling chamber, 질량분석기에 0.8 ～ 0.005 torr 압력으로 시료를 주입할 수 있는(압력게이지가 장착된 main sampling chamber 및 molecular flow가 형성될 수 있음) 극 미세 pin hole을 가진 single 혹은 double injection port가 장착되는 장치로 - 시료가스의 주입 압력 및 시료 전 처리에 필요한 turbo 및 rough pump가 적절하게 구성되어 저 진공 가스 시료 및 다양한 시료중의 가스 성분을 정량적으로 분석할 수 있는 시스템을 제작하는 기술이다. ▶ 시스템 구성 : 시료 전처리 장비가 장착되고, 저진공 시료를 정량 분석할 수 있는 시스템 구축 ☞ 저진공 시료 분석 장치 세부 구성 내용 - 고진공 시료 전처리 및 검출기로 주입하는 장치 - 반도체 관련 LCD, 유기 EL 및 PDP 내부 가스 시료 포집 장치 - 시료 전처리 부분과 주입부분의 절대 압력 측정 장치 - 저진공 시료 가스 중의 성분가스별 분압 측정 시스템 - 시료 전처리 시스템은 자동 밸브 시스템을 장착 - 절대 진공측정기(Baratron gauge)를 검출기 주입부분(Max 1 torr)과 시료 전처리 부분(Max 760 torr)에 장착하여 총량 정량이 가능하게 함 - 저 진공 가스 시료를 QMS를 사용하여 분석을 할 경우 본 기술이 적용되는 시료 주입 시스템의 장착 및 전처리 시스템이 없을 경우 정확한 분석이 불가능함, 따라서 반도체 및 display 관련 제품중의 가스 분압의 정량적 data를 산출하기 위하여 본 기술관련 시스템이 장착되어야 함. - 국내외를 비롯하여 이와 같은 시스템이 장착된 저 진공가스 분석 장비의 보급이 전무하여 이들 장치의 기술이전으로 즉각적인 국내 및 외국 관련 산업체에 보급이 가능함. - 기본적인 시스템 제작기술을 기반으로 다양한 종류 및 형태의 시료중의 모든 가스 성분의 분석이 가능함으로 가스분석기기로서의 선택성이 대단히 높음 - 반도체, 전구, display 관련 산업체의 다양한 수요가 예상됨(년 5대 이상) - 상품화 후 년 간 20 % 이상 성장 예상 - 반도체 소자 및 관련 제품 중의 내부 저진공 가스분석(제품 개발 및 품질관리) - Display 관련 PDP 및 LCD panel 중의 가스 성분 분석 - OLED 소자중의 극 미량 가스 분석을 통한 신제품 개발 공정에 활용 - Scrubber 효율측정 및 반도체 관련 장비의 성능평가 - 조명기기 개발과정에서의 저 진공 조명가스 분석에 활용 - 반도체 칩등의 고체 시료에서 발생하는 가스의 분석에 활용 - 산업체 공정용 가스중의 H2를 포함하는 무기가스 성분의 분석에 활용