일반기술

세정장치 및 이에 사용되는 고압세정기

본 발명의 특징은 초임계 단일상 유체의 신속한 형성 및 안정적 유지가 가능하며, 공정이 간소하되고 소요시간이 단축되면서도 효과가 우수한 세정 장치 및 이에 사용되는 고압세정기이다. 특히 이 기술은 반도체/MEMS 제조산업, 각종 정밀부품 및 기계류 세정, 원자력 발전소 등의 특수 업체의 피복 세정과 같은 다공성 소재 및 전자 부품 소자의 초정밀 세정 분야에 다양하게 적용 및 응용될 수 있으며, 이는 반도체 산업의 세정장비에 적용시, Stripping 공정 단순화 또한 꾀할 수 있다.초임계 단일상 유체의 신속한 형성과 유지를 통한 세정, 헹굼 및 건조의 연속 조업이 가능한 공정을 구성하고 있는 세정장치와 이에 사용되는 안전하고 세정효율이 높은 자동화 고압세정기이다. 이러한 우수한 세정공정을 위하여, 고압세정기에 웨이퍼를 장착하는 단계, 상기 고압세정기 내에 저압의 고순도 기체 이산화탄소를 주입하는 단계, 상기 고압세정기 내에 초임계 세정압력보다 낮은 압력의 이산화탄소를 주입하는 단계, 상기 고압세정기 내에 세정용 첨가제와 초임계 상태의 이산화탄소가 혼합된 초임계 상태의 균질 투명상 혼합물을 초임계 세정압력으로 주입하여 상기 웨이퍼를 세정하는 단계, 상기 고압 세정기 내에 헹굼용 첨가제와 초임계 상태의 이산화탄소가 혼합된 초임계 상태의 헹굼용 혼합물을 주입하여 상기 웨이퍼를 헹구는 단계와, 상기 고압세정기의 혼합물로 부터 이산화탄소를 분리하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 공정을 제공한다. 이는 반도체산업에서의 세정공정의 비중이 큼으로 반도체 세정장비업체로의 특화 가능성이 크며, 기존 습식세정장비의 대체 가능성으로 시장성 역시 크다.