일반기술

근접장 레이저 패터닝 장치

본 기술은 근접장을 이용한 레이저 패터닝 장치에 관한 것이다. 레이저빔으로 가공물에 서브 마이크론 스케일의 패턴을 형성하는 장치로, 레이저빔이 파장보다 작은 직경의 개구부가 형성된 프로브에 집광하여 프로브의 탐침이 근접장 형성을 위하여 가공물과의 거리를 50nm 이하로 유지시키도록 한다. 이를 위하여 튜닝포크를 사용하여 이 간격을 유지 하도록 하였다. 레이저 빔은 UV레이저 및 펨토초 레이저를 포함하며 파장보다 작은 개구부를 같는 프로브는 마이크로 피펫의 형태를 가지며 레이저 소스에 따라 피펫의 재질을 결정한다.근접된 프로브에서 발생한 파장보다 작은 레이저 빔을 이용하여 스캐닝과 레이저 빔의 on/off를 제어하여 패터닝을 구현하는 장치이다. Quantum dot 구조의 생성, 바이오 물질에 나노스케일의 국부적 광반응을 통한 패터닝 및 조작기술, 나노선 및 점 구조 제작본 기술의 특징은 빛의 회절한계를 극복하여 보다 정밀한 패턴을 형성할 수 있는 레이저 패터닝 방법 및 그 장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 바이오물질 및 photo resist에 나노스케일의 패턴을 형성하는데 적합한 레이저 패터닝 방법 및 그 장치를 제공하는 것이다.특히 펨토초 레이저를 사용할 경우 광화이버를 통과할 때 beam dispersion이 일어나 펄스폭이 증가하는데 나노피펫을 이용한 본 기술을 이용할 경우 펨토초의 성질을 잃지 않고 패터닝에 적용할 수 있다.근접장 광 이용 패터닝 및 조작 기술 장치로 주로 기초과학에 응용이 가능한 장치로 개발 할 수 있으며 펨토초 및 UV 근접장 측정 장치로 개발하여 활용할 수 있다.