일반기술

임프린트된 나노구조물을 이용한 미세접촉 인쇄기법과 이의 나노 구조물

본 기술에서 제공하는 나노임프린트 리소그래피 공정을 도입한 미세접촉 인쇄 방법은, 나노임프린트 리소그래피 공정을 이용해서 기판 위에 나노구조물을 형성하는 단계와 미세접촉 인쇄방법으로 패턴닝하는 단계로 이루어지며, 패턴닝 단계가 나노구조물에 금속박막을 증착하는 단계, 자기 조립 단층막이 잉킹된 스탬프와 금속 박막이 증착된 나노구조물을 접촉시켜 자기조립 단층막을 나노구조물에 선택적으로 인쇄하는 단계, 자기조립 단층막을 마스크로 금속 박막을 선택적으로 제거하는 단계, 나노구조물에서 자기 조립 단층막을 제거하는 단계, 그리고 나노구조물에 잔존하는 금속박막을 마스크로 사용해서 기판을 패턴닝하는 단계를 포함하여 이루어진다.본 기술은 미세접촉 인쇄방법의 스탬프 유연성으로 인해 발생하던 임계치수 한계를 극복하여 100 nm이하의 미세 패턴 구현이 가능하게 하는 기술로 적용가능한 나노반도체 소자, 고밀도 자기저장장치, 고밀도 하드디스크, 나노바이오 소자는 그 시장이 막대하기 때문에 사업성이 매우 크다 하겠다.본 기술은 나노반도체 소자, 고밀도 자기저장장치, 고밀도 하드디스크, 나노바이오 소자 제작 등에 적용될 수 있다. 기존의 미세접촉인쇄공정에서는 탄성중합체 특성상 수백나노미터급 미세패턴의 구현이 가능하지만 해성도가 나쁘고 결함이 많아 100 nm이하의 미세 패턴 구현이 거의 불가능하다. 본 기술은 기존의 미세접촉 인쇄기법의 문제점을 나노임프린트 리소그래피 공정으로 해결하여 100 nm이하의 치수를 요구하는 나노구조물을 제작할 수 있도록 개선한 나노임프린트된 나노구조물을 이용한 미세좁촉 인쇄방법을 제공하는 목적이 있다. 나노반도체 소자, 고밀도 자기저장장치, 고밀도 하드디스크, 나노바이오 소자 제작 (관련업체: 삼성전자, 하이닉스, MEMS 제품업체, LG필립스등)기술활용결과의 형태 : □ 재료생산 □ 완제품생산 ■ 일부공정대체 □ 생산성향상 □ 기타