일반기술

디스펜서를 이용한 대면적 스탬프의 제조방법과 이를 이용한 복제몰드의 제조방법

본 기술은 디스펜싱 방법에 의한 대면적의 패턴 복제를 위한 마스터 및 스탬프의 제조 방법 및 그 마이크로 렌즈를 포함하는 응용방법에 관한 것이다. 종래의 패턴 복제를 위한 마스터 제조 공정은 주로 전통적인 식각공정인 광식각(photolithography)공정과 전자빔 식각공정(electron beam lithography)이 주로 사용되었다. 하지만 기존방법의 문제점은 패터닝을 하는데 고가의 장비와 대형의 장비가 필요하여 대면적에는 한계가 있다. 본 기술은 대면적의 패턴을 식각공정 없이 디스펜서로 패터닝하여 대면적의 스템프를 제조하는 방법을 제공한다.본 기술에 의하면 디스펜싱 방법에 의해서 대면적의 스탬프가 별다른 식각공정 없이 저가의 대량공정으로 쉽게 제조 될 수 있으며 이들은 복제 공정을 통하여 다양한 재질의 복제 몰드가 제조될 수 있다. 또한 액적 및 패턴의 형상이 표면성질과 열처리 등의 후처리 공정을 통하여 쉽게 조절이 가능하다는 장점이 있다. 이렇게 제조된 스탬프 및 복제 몰드는 임프린트 및 소프트 리소그래피용 스탬프로 사용이 가능하며 특히 이들은 기존의 방법으로는 한번에 공정이 힘든 대면적 패턴이 가능하기 때문에 대면적 디스플레이제작에 있어서 휘도 향상을 위한 요철구조와 기판사이의 균일한 간격 유지를 위한 Spacer로 사용이 가능하다. 기술적 특징:1. 디스펜서로 대면적 기판에 액적을 패터닝하는 단계2. 상기 액적에 열을 가하거나 빛을 조사하여 상기 액적을 경화하는 단계를 포함하며, 액적의 형상 및 크기를 표면처리 및 기화(건조) 방식에 의해서 조절이 가능하다.