일반기술

감광성 작용기, 이를 포함하는 감광성 고분자 및 이를 이용한 감광성 액정 배향막의 제조방법

본 발명은 감광성 반응기, 이를 포함하는 감광성 고분자 및 이를 이용한 감광성 액정 배향막의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 높은 광감도(Photosensitivity)를 가져 감광 특성이 향상되고 광반응 후에 안정성을 얻을 수 있는 감광성 물질을 얻을 수 있는 감광성 반응기, 이를 포함하는 감광성 고분자 및 이를 이용한 감광성 액정 배향막의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 감광부 단위를 주쇄 또는 측쇄 중 적어도 한 곳에 가지는 감광성 반응기를 포함하는 감광성 고분자의 제공을 통하여 달성될 수 있다.본 발명은 광배향에 있어 광조사 시간을 단축시킬 수 있는 높은 감광성, 내열성 및 광안정성을 가진 감광성 고분자 액정 배향제를 제조함에 있어 사용되는 감광성 반응기, 이를 포함하는 감광성 고분자 및 이를 이용한 감광성 액정 배향막의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.본 발명에 의한 상기 목적은 감광부 단위를 주쇄 또는 측쇄 중 적어도 한 곳에 포함하는 감광성 반응기 및 이를 포함하는 감광성 고분자의 제공을 통하여 달성될 수 있다.또한, 상기 목적은 상기 고분자는 폴리메타크릴레이트, 폴리실록산, 폴리사이나뉴레이트, 폴리피라노스, 폴리이미드, 폴리아마이드, 폴리비닐, 폴리우레탄, 폴리에스터, 에폭시 중 적어도 1인 것을 특징으로 하는 감광성 고분자의 제공을 통하여도 달성될 수 있다.또한, 상기 목적은 상기 고분자는 분자량이 1,000 내지 5,000,000인 것을 특징으로 하는 감광성 고분자의 제공을 통하여도 달성될 수 있다.또한, 상기 목적은 상기 감광성 고분자을 이용하여 액정 배향성이 부여되는 액정 소자의 제공을 통하여도 달성될 수 있다.또한, 상기 목적은 감광부를 주쇄 또는 측쇄 중 적어도 한 곳에 포함하는 감광성 반응기를 가지는 감광성 고분자를 유기용매에 1중량% 내지 20중량%의 농도와 1 내지 100 cps의 점도로 용해시키는 단계, 상기 유기용매에 용해된 감광성 고분자를 스핀코팅 방법 또는 프린팅 방법으로 10 내지 500㎚의 두께로 도포하여 막을 형성하는 단계, 상기 막의 표면에 편광, 부분편광 또는 비편광 중 적어도 1의 자외선을 경사조사 또는 수직조사 중 적어도 하나를 이용하여 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 액정 배향막의 제조방법의 제공을 통하여도 달성될 수 있다.또한, 상기 목적은 상기 유기용매는 클로로벤젠, N-메틸피롤리돈, N-에틸피롤리돈, N,N-디메틸이미다졸리디논, N,N-디프로필이미다졸리디논, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 디클로로에탄, 부틸셀루솔브, 감마부티로락톤 및 테트라히드로푸란 중 적어도 1인 것을 특징으로 하는 감광성 액정 배향막의 제조방법의 제공을 통하여도 달성될 수 있다.또한, 상기 목적은 상기 감광성 액정 배향막의 제조방법에 의한 감광성 액정 배향막의 제공을 통하여도 달성될 수 있다.