일반기술

세정공정

본 발명은 공정이 간소화되고 소요시간이 단축되면서도 효과가 우수한 세정공정을 위하여, 고압세정기에 웨이퍼를 장착하는 단계와, 상기 고압세정기 내에 저압의 고순도 기체 이산화탄소를 추입하는 단계와, 상기 고압세정기 내에 초임계 세정압력보다 낮은 압력의 이산화탄소를 주입하는 단계와, 상기 고압세정기 내에 세제용 첨가제와 초임계 상태의 이산화탄소가 혼합된 초임계 상태의 균질 투명상 혼합물을 초임계 세정압력으로 주입하여 상기 웨이퍼를 세정하는 단계와, 상기 고압세정기 내에 헹굼용 첨가제와 초임계 상태의 이산화탄소가 혼합된 초임계 상태의 헹굼용 혼합물을 주입하여 상기 웨이퍼를 헹구는 단계와, 상기 고압세정기의 혼합물로부터 이산화탄소를 분리하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정공정을 제공한다.본 발명의 세정장치 및 이에 사용되는 고압세정기에 따르면, 세정공정을 단순화시키고 세정에 소요되는 시간을 단축시키면서도 우수한 세정효과를 얻을 수 있다. 이는 초임계 단일상 유체 형성을 위한 최적의 첨가제 배합 기술, 공정이 간소화 되면서도 초임계 단일상의 신속한 형성 및 유지가 가능하여 소요시간이 단축되고 효과가 우수한 세정공정을 제공하는 기술적 특징을 가진다. 이로인해 반도체산업에서의 세정공정의 비중이 큼으로 반도체 세정장비업체로의 특화가능성이 크며, 또한 습식세정장비의 대체가능성이 크므로 시장성 또한 크다.