일반기술

TFT-LCD 혼합산 폐에칭액으로부터 초고순도 인산, 질산 및 초산을 초고순도로 분리, 회수하는 방법

*원리 및 구성본 발명은 TET-LCD 혼합산 폐에칭액으로부터 인산, 질산 및 초산을 초고순도로 분리, 회수하는 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 TFT-LCD 혼합산 폐에칭액을 재활용하는 방법으로, TFT-LCD 기판의 알루미늄 및 합금을 인산, 질산 및 초산이 포함된 혼합산으로 에칭한 후에 배풀되는 폐에칭액으로부터 첨가제나 용매의 첨가 없이 경막 용융 결정화 과정과 감압증발 과정을 수행함으로써 초고순도의 인산(H₃PO₄),질산(HNO₃),초산(CH₃COOH)을 각각 분리.회수하는 방법에 관한 것이다.*종래기술 - 일반적으로 질산, 초산 및 인산의 혼합산은 반도체용 알루미늄막 에칭액으로서 광범위하게 사용되고 있다. 에칭공정 이후 폐기되는 상기 산은 pH가 매우 낮은 강산이며, 에칭액 내부에 포함된 금속 불순물은 웨이퍼(기판)상의 여러 막과 전극을 구성하는 성분으로서 환경에 매우 유해하다. 상기 유해성 폐산의 통상적인 처리방법으로서 중화법, 소각, 역삼투, 증발법 등이 알려져 있다. - 중화법(neutralization)은 폐산의 처리방법으로서 일반적으로 이용되고 있다. 폐산을 중화하기 위해서 여러 가지 염기(base)가 중화시점에 도달할 때까지 계속 투입된다. 상기방법의 단점은 폐산을 처리하기 위해서 통상 처리 폐산양에 비해 과량의 염기가 필요하며 동시에 중화반응에 동반되는 과도한 중화열과 부산물로서 다량의 염이 발생되는 점이다. 그리고, 이들 염의 처리를 위해서 매립이 통상적으로 이용되고 있지만, 최근 환경규제, 사회적 반발로 인해서 매립자 부지 확보에 큰 어려움이 뒤따르고 있다*특징 및 장점1) 경막 용융 결정화 과정과 감압증발 과정을 거쳐 특별한 장치나 운전없이 간단하게 수행될 수 있음. 2)본 발명에서 얻어진 인산, 질산 및 초산은 고순도.3)반도체용 에칭액, 무기염 제조, 의약품, 분석시약 등의 재활용 가능.