일반기술

오스테나이트계 스테인리스 제품의 가스질화방법

본 발명은 오스테나이트계 스테인리스 제품의 가스질화방법에 관한 것으로서, 본 발명의 방법은 환원성 분위기[예를 들어, 염화암모늄(NH4Cl)]를 제공하는 매체를 사용하여 오스테나이트계 스테인리스 제품을 200℃ ∼ 600℃에서 45분 ∼ 5분동안 예비처리하는 단계(S11)와, 예비처리된 오스테나이트계 스테인리스 제품을 대기 중에 방치하는 단계(S12) 및, 대기 중에 방치된 오스테나이트계 스테인리스 제품을 600℃ 이하의 암모니아(NH4)가스 분위기에서 일주일 이내 동안 가스질화 처리하는 단계(S13)를 포함한다. 본 발명은 질화 열처리 전에 예비처리를 실시하여 오스테나이트계 스테인리스 제품의 표면에 생성되어 있는 부동태 피막을 효과적으로 제거하여 표면을 활성화시켜 줌으로 오스테나이트계 스테인리스 제품의 질화처리가 가능하다.본 발명은 질화 열처리 전에 예비처리를 실시하여 오스테나이트계 스테인리스 제품의 표면에 생성되어 있는 부동태 피막을 효과적으로 제거하여 표면을 활성화시켜 줌으로써 질화처리가 가능한 오스테나이트계 스테인리스 제품의 가스질화방법을 제공하는 데 그 목적이 있다. 상기 목적을 달성하기 위해 오스테나이트계 스테인리스 제품을 200℃ ∼ 600℃의 환원성 분위기에서 45분 ∼ 5분동안 예비처리하는 단계와, 예비처리된 상기 오스테나이트계 스테인리스 제품을 600℃ 이하의 암모니아(NH4)가스 분위기에서 일주일 이내 동안 가스질화 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.