일반기술

인터페로미터를 이용한 웨이퍼 표면의 스트레스 측정장치

일반적으로 웨이퍼의 제조시 화학기상증착법 및 스퍼터링과 식각 등의 다양한 고속처리공정이 요구되고 있으며 고온고속 처리공정 중에 웨이퍼의 표면에 발생되는 스트레스의 정도를 세밀하면서도 정확하게 실시간으로 파악할 수 있는 고도의 기술이 요구되고 있었다.본 발명은 웨이퍼 표면 측정장치에 관한 것으로 웨이퍼 표면의 온도에 의한 스트레스를 분석하기 위한 인터페로미터를 이용한 웨이퍼 표면이 스트레스 측정장치에 관한것이다.본 발명은 웨이퍼의 고온고속 처리공정 도중 지속적으로 상승되는 고온에 노출되는 웨이퍼의 표면 스트레스가 각도별, 온도별로 실시간 세밀하고도 정확하게 측정되고 히터척에 의해 고온으로 상승된 챔버의 내부가 진공게이지의 체크에 의한 히터척의 작동으로 소정의 온도까지 상승되면서 진공 및 유해가스배출이 지속적으로 이루어지며, 외부와의 확실한 단열이 이루어지며 고온에 의한 웨이퍼의 불량 발생률이 현저히 저감될 수 있다.