일반기술

에어로솔 발생장치와 MCVD를 적용한 광섬유 제조를 위한 희토류 이온의 첨가방법

본 발명은 에어로솔(AEROSOL)발생장치와 MCVD (MODIFIED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION : 수정화학 진공증착)을 적용하여 광섬유를 제조하기 위한 회투류 이온 첨가 방법에 관한 것이다. 일반적으로 적용되는 MCVD를 이용한 용액 도핑 기법은 MCVD시설에 회토류 첨가 용액 및 용기 그리고 탈수(DEHYDRATION)와 신터링(SINTERING)공정이 추가로 실시되어야 하는 것이며, 예비성형튜브를 MCVD레이드에서 떼어낸 후 용액에 담그었다가 건조 후 다시 MCVD 레이드에 부착시키는 다단계와 공정이 필요하게 되는 것이고 회투류 이온이 고르게 분포되지 못하며 용액의 손실량이 커지게 되는 문제점이 되는 것이다. 또 다른 MCVD를 이용한 휘발성 할로겐 화합물 기법도 실용화되어 있으나 이는 챔버 (CHAMBER), 실리카 스폰지(SILICA SPONGE), 앰플(AMPOULE) 및 이를 가열할 수소 토지(TORCH)가 필요하게 되는 것이어서 시설비 부담이 과중하게 되는 문제점이 있다. 본 발명은, 예비성형튜브가 레이드에 삽입되어 회전될수 있도록 하여서 된 로타리 실에 MCVD 전송구와 에러로솔 전송구가 연결되도록 하고 이러한 에어로솔 전송구와 예비성형튜브를 가열하기 위하여 수소 토치가 예비성형튜브의 전길이에 대하여 동시에 이동될 수 있도록 구성되어 있다.SiCl4, GeCl4, POCl3, SF6등의 증기를 전송하는 MCVD전송구와 유리구조에 침투시키기 위한 용액의 에러로솔 발생장치 상방의 He, O2등의 전송개스를 배출하는 에어로솔 전송구가 로타리실(ROTARY SEAL) 에 연결되도록 하고 로타리 실의 내부와 연통되는 예비성형튜브는 회전되도록 되어 있으며 로타리 실 내부는 대기와 차단된 ALFVoTKDXO를 유지하고, 에어로솔 발생장치이 에러로솔 전송구는 회전하지는 않으나 예비성형튜브의 전길이에 걸쳐서 수소 토치과 함께 이동되도록 함을 특징으로 한다. 본발명의 에어로솔 발생장치와 MCVD를 적용한 광섬유 제조를 위한 회토류 이온의 첨가방법은, 회토류 이온의 첨가 방법을 단순화하여 생산성 향상을 도모하고, 회토류 이온의 분포가 고르게 되도록 하여 품질의 균일성을 제공하며 회토류 용액의 불필요한 소모를 방지하여 경제적 부담을 경감시키고 설비의 단순화를 도모함으로써 시설비 부담을 최소화하였다.