일반기술

반도체/디스플레이 제조장비의 RF 플라즈마 임피던스 검출기

종래의 임피던스정합기는 고전력의 사용으로 임피던스정합기의 소자의 수명이 줄어들고, 공정조건으로 과도한 자기장의 사용으로 노이즈가 발생하여 초기임피던스 정합시에 과도정합시간이 발생하여 초기 플라즈마의 불안정으로 인한 웨이퍼 및 유리기판의 평판도의 변화 및 등방성의 가공으로 문제가 발생되었다.본 발명은 복잡한 회로구성에 의해 발생되는 노이즈의 유입경로를 차단 할 수 있고, 고전력에도 견딜 수 있는 반도체/디스플레이 제조장비의 RF 플라즈마 임피던스 검출기를 제공하는 데 있다.본 발명에 의하며, RF전원의 위상 및 크기를 검출하여 복잡한 회로구성에 의해 발생되는 노이즈의 유입경로를 차단 할 수 있고, 고전력에도 견딜 수 있는 이점이 있으며 공정조건으로 자기장이 사용될 때 발생되는 초기 과동상태를 제거할 수 있는 이점이 있다.- 발명의 구성 -전원발생기에서 공급되는 RF전원을 정합하여 정합된 임피던스를 챔버에 공급하는 RF임피던스정합기의 내부에 구비되는 RF검출기에 있어서, 상기 RF검출기는 RC회로를 통해 상기 RF전원발생기에서 공급되는 RF전원의 반사전력을 복조하고 특정주파수 영역을 선별하여 위상을 검파하는 위상검파부와 상기 RF전원과 상기 챔버로부터 반사되는 반사전력을 추출하는 검출부와 RC회로를 통해 상기 RF전원발생기에서 공급되는 RF전원의 반사전력을 복조하고 특정레벨영역을 선별하여 크기를 검파하는 크기검파부와 상기 위상검파부에서 검파된 위상신호를 필터링하여 기준위상신호를 출력하는 위상오상검출부와 상기 크기검파부에서 검파된 크기신호를 필터링하여 기준크기신호를 출력하는 크기오차검출부를 포함한다.