일반기술
공기순환식 유인 오존 살균 시스템 및 방법
* 주요 내용공기통로인 덕트의 출구측에 설치되고, 일정간격으로 떨어져 배열되는 방전전극에 전원 공급부로부터 전원을 인가받아 저온 플라즈마를 발생하여, 덕트를 통과하는 공기 중 산소의 일부를 활성산소로 해리하고, 해리된 활성산소를 산소분자와 결합하여 오존을 발생시키는 저온 플라즈마부와, 상기 저온 플라즈마부의 후단에 연결되고 저온 플라즈마부에서 발생된 오존을 청정공기와 희석하여, 오존의 농도를 유인(有人)살균이 가능한 제한치 이하로 조절하는 희석제어부와, 상기 덕트의 입구측 저온 플라즈마의 앞단과 희석제어부 내의 HEPA 필터 후단에 각각 설치되어 대상공간을 순환하고 덕트로 흡입되는 공기 중 잔류오존을 광촉매에 흡착한 후, UV 조사에 의해 여기된 촉매활성부재와 반응시켜 활성산소와 산소로 해리하고, 활성산소로 덕트로 흡입되는 공기 중 미살균 세균 및 바이러스의 세포막을 손상시켜 2차 살균을 수행하는 UV 광촉매부와, 상기 희석제어부와 덕트 내 UV 광촉매부 후단에 각각 설치되어 대상공간으로 배출되는 오존의 농도와 덕트 내 UV 광촉매부를 통과한 후 저온플라즈마 부로 유입되는 공기 중의 오존 농도를 실시간으로 감지하고, 감지한 데이터를 중앙 제어부로 전송하여, 저온 플라즈마부와 희석제어부의 운전을 중앙 제어부로 하여금 제어하게 하는 오존센서를 포함하며, 이때 상기 희석제어부는 공급팬, HEPA 필터 및 UV 광촉매부를 포함하고 희석제어부로 청정공기를 공급하는 청정공기 공급부와, 상기 희석제어부로 공급되는 청정공기의 양을 조절하는 공급 조절부와, 상기 저온 플라즈마부에서 발생된 오존을 공급된 청정공기와 혼합하는 혼합부로 이루어지는 것을 특징으로는 공기순환식 유인 오존 살균장치.* 과제유인 살균의 최적화를 통해 고효율의 공간 살균을 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 주 목적은 저온 플라즈마와 UV 광촉매 기술과 오존센서를 활용하여 유인살균의 안전성을 확보하고 저농도 오존에 의한 살균에서 올 수 있는 저효율 살균의 문제를 2차 살균을 통해 해결하는 공기순환식 유인 오존 살균시스템 및 방법을 제공하는데 있다.본 발명의 다른 목적은, 오존에 있어서 피독이 거의 이루어지지 않는 UV 광촉매 기술을 적용하고 오존발생을 순산소 조건이 아닌 일반 공기를 대상으로 안정적인 저농도 오존의 발생, 순환 및 해리를 달성함으로써, 오존발생에 있어서 구비되는 산소의 비용을 절감하고 부수적으로 발생되는 유해물질을 안정화하며 반영구적인 오존 해리를 통해 저농도 오존발생 및 잔류오존의 효율적인 활용을 달성하는 공기순환식 유인 오존 살균시스템 및 방법을 제공하는데 있다.본 발명의 또 다른 목적은, 오존발생에 있어서는 저온 플라즈마 기술을 이용하고 오존 해리에 있어서는 파장이 320㎚ 이상의 UV-A 자외선 발광 기술을 활용하는 상호 보완적 통합 시스템을 적용하여, 오존의 발생과 해리의 모든 과정에서 세균 제거를 달성하는 고속 살균기술로, 살균에 있어서는 효율적이면서 인체에 있어서는 안전성을 확보하는 공기순환식 유인 오존 살균시스템 및 방법을 제공하는데 있다.* 효과첫째, 병원, 식품공장 및 실내, 지하 생활공간 등의 청정도를 유지하기 위해 사용되는 공기순환식 공간 유인(有人) 오존 살균시스템으로 저온 플라즈마와 UV 광촉매 장치를 통합함으로써 오존의 공간 순환 과정 동안 세균 및 바이러스를 1차 살균하고, 살균 후 잔류하는 오존이 UV 광촉매부를 통과하면서 살균장치 유입 공기 중 잔류하는 세균 및 바이러스를 2차 살균하여 저농도 오존에서 고속 유인살균을 할 수 있다.또한, 장치 내부에 오존센서가 구비되고 자동제어되는 저온 플라즈마와 UV 광촉매 기술을 통합하여 세균 및 바이러스를 고효율로 살균하는 동시에 대상공간의 오존농도를 제한치 이하 농도로 항상 유지할 수 있기 때문에 시스템의 유지 및 성능면에서 최적화를 이룰 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 환경 > 기타 환경오염제어·관리 기술
- 보유기관
- 연세대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-03-19
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.