일반기술

미세접촉 인쇄와 선택적 화학 용액 증착법을 이용한 황화카드뮴 박막의 형상화 방법

본 기술은 미세 접촉 인쇄와 선택적 화학 용액 증착법을 이용한 황화카드뮴 박막의 형상화 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 미세접촉인쇄와 선택적 화학 용액 증착법을 이용한 황화 카드뮴 박막 제작 방법을 결합하여 선택적 증착을 통해 황화 카드뮴 박막을 형상화한 박막을 제작할 수 있는 방법에 관한 기술임. 본 기술은 태양전지내 반도체, 가시광선 검출기 등에 사용될 수 있어 전자부품산업 시장의 성장률을 고려할 때 시장이 급속도로 커질 가능성이 높다.본 기술은 황화카드뮴 박막을 2차적인 에칭이나 폴리싱의 작업 없이 미세 접촉 인쇄를 이용하여 선택적으로 원하는 두께의 황화물 박막을 형상화하는 방법에 관한 것으로 기술군의 발전방향에 부합되는 최신 기술이다. 본 기술은 경쟁기술에 비하여 우수하고 시장전망 역시 우수하며 사업화에 특별한 어려움이 없어 사업성이 높을 것으로 판단된다. 본 기술은 태양전지의 n-형 반도체, 가시광성 검출기 등에 적용되는 기술이다. 종래의 CIGS 태양전지 버퍼층의 대체기술로 특이적인 나노입자의 형태가 활용될 수 있는 다양한 디바이스로 확대될 가능성 보유