일반기술

광변조장치

본 기술은 금속막과 유전체의 계면 회절격자 구조에서 유도되는 표면 플라즈몬 공명을 이용하는 광변조장치에 관한 것으로서, 베이스 기판과, 상기 기판 상에 적층 형성되는 금속막과, 상기 금속막 상에 적층 형성되는 전기광학물질막과, 상기 금속막과 전기광학물질막의 계면에 형성되는 미세 회절격자 구조, 상기 전기광학물질막 상에 적층되는 투명전극, 그리고 상기 금속막과 투명전극에 접속되는 전원과, 이렇게 구성된 광변조칩으로 광을 제공하는 광원부 및 반사광을 검출하는 수광부를 포함하여 구성한다.이러한 본 발명의 기술은 초고속 광스위치, 광변조기, 공간-광변조기, 광인터컨넥트, 광 필터, 디스플레이 제조에 이용할 수 있으며, 이를 통한 광통신 및 정보전자분야의 다양한 부품제조에 크게 응용할 수 있다.본 발명의 광변조장치는 고 굴절 프리즘을 이용하는 기존의 방식의 문제점을 해결하기 위하여, 미세 회절격자결합 표면 플라즈몬 공명을 응용한 광변조 시스템을 구현하고 있다. 이에 따라 본 발명에 의하면, 기존의 고굴절 프리즘이 요구되는 Kretschmann형 표면 플라즈몬 광변조기에 비해 낮은 제조단가로 단순화, 소형화, 고집적화, 대량생산을 용이하게 실현하는 효과를 얻을 수 있다.본 발명의 광변조장치의 제조방법은 패턴 마스크를 이용하여 금속막과 유전체의 계면에 단일, 다수 및 다중의 회절격자를 용이하게 구현하는 효과를 얻을 수 있다.따라서 본 발명에 의하면, 고 굴절 프리즘을 이용하는 기존의 방식의 문제점을 해결할 수 있으며, 미세 회절격자결합 표면플라즈몬 공명을 응용한 광변조 시스템을 구현할 수 있다.또한 본 발명에 의하면, 기존의 고굴절 프리즘이 요구되는 Kretschmann형 표면 플라즈몬 광변조기에 비해 낮은 제조단가로 단순화, 소형화, 고집적화, 대량생산을 용이하게 실현하는 효과를 얻을 수 있다.이러한 본 발명의 기술은 초고속 광스위치, 광변조기, 공간-광변조기, 광인터컨넥트, 광 필터, 디스플레이 제조에 이용할 수 있으며, 이를 통한 광통신 및 정보전자분야의 다양한 부품제조에 크게 응용할 수 있다.