일반기술

포지티브형감광성수지조성물및그것을이용한포지형포토레지스트필름의제조방법

본 발명은 고밀도 인쇄 회로기판 제조를 위한 포토리소그래피(사진 석판) 공정에서 자외선에 노광되고 알카리 수용액에서 현상 처리되어 양화상을 형성하면서 콘트라스트, 접착력, 내열성, 내에칭성, 저온유동성 및 해상력이 우수한 포지(티브)형 포토레지스트 필름의 제조방법과 그것을 제조하기 위한 포지티브형 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.본 기술을 포함한 기술군은 현재 주로 DRAM, FLASH 등의 메모리 소자, 마이크로 프로세서 등의 반도체나, PDP, LCD 등의 디스플레이, 인쇄회로기판 분야에 응용되어 제품화 되고 있다.본 기술은 전자제품의 소형화, 경량화에 따라 점차 고밀도화, 다층화를 요구하는 인쇄회로 기판에 있어서, 이의 가공에 필수적인 드라이 포토레지스트 필름의 고해상력, 선폭조절 특성의 우수성 그리고 고도의 생산성이 요구됨에 따라 그 중요성이 증가하고 있다.본 기술을 포함한 기술군은 현재 주로 DRAM, FLASH 등의 메모리 소자, 마이크로 프로세서 등의 반도체나, PDP, LCD 등의 디스플레이, 인쇄회로기판 분야에 응용되어 제품화 되고 있다.본 기술이 위 응용분야의 기존 기술보다 뛰어난 장점 및 특징은 다음과 같다. - 빛에 의해 광분해를 일으키는 나프토 퀴논 디아지드계 에스테르 화합물과 혼합 고분자 결합제를 이용하여 포지티브형 감광성 수지 조성물을 만들고 이 조성물로 해상력이 뛰어나고 선폭 조절 특성이 우수한 효과가 있다.