일반기술

감광성 조성물

본 발명은 근자외선 또는 가시광선 등의 복사선에 의해 염소 또는 브롬들의 라디칼을 생성하는 발색단으로 디아조페닐기가 치환된 4,6-비스(할로메틸)-s-트리아진계 화합물을 광중합 개시제로 사용한 감광성 조성물에 관한 것이다. 보다 상세하게는 즉, 본 발명은 바인더수지, 다관능성화합물, 광중합개시제, 증감제 및 기타 첨가제로 구성되는 감광성 조성물에 있어서, 발색단으로 디아조페닐기가 치환된 4,6-비스(할로메틸)-s-트리아진계 화합물을 광중합 개시제로 사용한 것임을 특징으로 한 것이다. 본 기술을 포함한 기술군은 현재 주로 액정 디스플레이, 컬러필터용 안료분산레지스트, 드라이필름 레지스트 및 기타 인쇄, 복사 등 화상 형성계 분야에 응용되어 제품화 되고 있다.본 기술은 기존의 할로겐 라디칼 생성제 등 광중합 개시제보다 감도가 우수하고 패턴을 제작하여 노광(露光), 현상 후의 표면 상태가 양호하다는 등 물성의 개선 효과를 나타낼 수 있음로서 그 중요성이 증가하고 있다.본 발명은 바인더수지, 다관능성화합물, 광중합개시제, 증감제 및 기타 첨가제로 구성되는 감광성 조성물에 있어서, 발색단으로 디아조페닐기가 치환된 4,6-비스(할로메틸)-s-트리아진계 화합물을 광중합 개시제로 사용한 것임을 특징으로 한 것으로서, 기존의 광중합 개시제를 사용한 경우보다 감도가 우수하고 패턴을 제작하여 노광, 현상 후의 표면 상태가 양호하는 등의 장점을 지닌 것이다. 본 기술을 포함한 기술군은 현재 주로 액정 디스플레이 컬러필터용 안료분산레지스트, 드라이필름 레지스트 및 기타 인쇄, 복사 등 화상 형성계 분야에 응용되고 있으며 본 기술이 위 응용분야의 기존 기술보다 뛰어난 장점 및 특징은 다음과 같다. - 첫째, 감도가 우수하다 - 둘째, 패턴을 제작하여 노광(露光), 현상 후의 표면 상태가 양호 - 셋째, 기타 물성의 개선 효과가 크다.