일반기술
광픽업의 구면수차 보정장치
본 기술은 광픽업의 구면수차 보정장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광디스크의 보호막 두께의 변화에 따른 구면수차의 변화에 대응하여 높은 응답속도로 보정할 수 있는 광픽업의 구면수차 보정장치에 관한 것이다. 본 기술은 현재 주로 광픽업장치 분야의 CD 및 DVD에 응용되고 있다. 본 기술은 액정의 느린 응답속도 때문에 광디스크 내에서 보호막 두께 편차에 의한 구면수차 변화에 대한 보상이 제대로 구현되지 못하고 있는 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 광디스크의 보호막 두께의 편차에서 오는 구면수차를 보정할 빠른 응답속도로의 보정이 실현될 수 있도록 하기 위한 그 중요성이 증가하고 있다. 본 기술의 광픽업의 구면수차 보정장치는, 광디스크 내의 보호막 두께 편차에 따른 구면수차를 빠른 응답속도로 보정할 수 있게 하기 위한 것으로, 편광빔스플리터, 오목렌즈, 반사판, 제1쿼터웨이브플레이트, 오목거울, 제2쿼터웨이브플레이트, 대물렌즈, 액츄에이터로 구성되며, 그 구성요소에 대한 내용은 다음과 같다. 1) 상기 편광빔스플리터는 광원으로부터 출사된 광로상에 설치된다. 2) 상기 오목렌즈는 상기 편광빔스플리터와 상기 광원 사이에 배치되게 한다. 3) 상기 반사판은 상기 오목렌즈의 반대쪽에 광축방향으로 전후 이동가능하게 구비되어 상기 편광빔스플리터를 투과한 광을 다시 상기 편광빔스플리터로 반사시킨다. 4) 상기 제1쿼터웨이브플레이트는 상기 편광빔스플리터와 상기 반사판 사이에 설치된다. 5) 상기 오목거울은 상기 편광빔스플리터에 재입사된 광이 상기 편광빔스플리터에 의하여 반사되는 방향에 배치되어 광을 다시 편광빔스플리터로 반사시키며 집광하는 역할을 한다. 6) 상기 제2쿼터웨이브플레이트는 상기 편광빔스플리터와 오목거울 사이에 설치된다. 7) 상기 대물렌즈는 상기 오목거울의 반대쪽에 설치된다. 8) 상기 액츄에이터는 상기 반사판에 연결되어 광디스크의 보호막 두께의 편차에 따라 반사판을 광축에 대하여 전후방향으로 구동시키는 역할을 한다.본 기술은 현재 주로 광픽업장치 분야의 CD 및 DVD에 응용되고 있다. 본 기술은 광디스크 내의 보호막 두께 편차에 따른 구면수차를 빠른 응답속도로 보정할 수 있게 하기 위한 광픽업의 구면수차 보정장치에 관한 것으로, 그의 장점 및 특징은 다음과 같다. 1) 반사판의 현저한 경량화를 기대할 수 있을 뿐만 아니라 액츄에이터에 의하여 반 사판을 기계적으로 용이하게 구동할 수 있으므로 광디스크 내의 보호막 두께 편차 에 따른 구면수차를 빠른 응답속도로 보정할 수 있게 한다. 2) 상기 반사판을 움직이는 방법은 최근 급속한 발전을 이루고 있는 MEMs 기술과 도 접목이 용이하므로 상기 액츄에이터의 선택에 있어 소형, 경량화에 크게 기여할 수 있게 한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-05-18
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.