일반기술

환형 셔터 미러와 그 제조방법 및 그를 이용한 이종 광픽업 장치

본 기술은 타켓쪽으로 진행하는 광빔의 일부를 그 진행방향으로부터 선택적으로 차단할 수 있는 환형 셔터 미러장치에 관한 기술로서, 보다 상세하게는 이종 광픽업장치에 관한 것이다.본 기술을 포함한 기술군은 현재 주로 CD, CD-R, DVD, 광디스크 등의 분야에 응용되어 제품화 되고 있다.본 기술은 광빔의 일부를 선택적으로 차폐하는 광 셔터에 관한 것으로, 특허 광빔의 일부를 그 광빔의 진행방향과 다른 방향으로 선택적으로 반사시키는 환형 반사 미러와 그 제조방법으로 그 중요성이 증가하고 있다.본 기술은 환형셔터미러, 광디스크용 광픽업장치, 제1도전층, 제2도전층, 빔스프리터, 센서렌즈 등으로 그 구성이 이루어지며, 각 구성에 대한 내용은 다음과 같다. - 첫째, 입사광빔의 입사각도에 따라 일정한 각도로 반사시키는 고정 반사수단 - 둘째, 고정 반사수단의 주변에 환형 띠의 형태로 나란하게 형성되어 전계의 존재여부에 따라 선택적으로 입사광빔을 상기 고정 반사영역의 반사각과는 상이한 각도로 반사시키는 가요성 반사수단을 구비한 구성 - 셋째, 타원형패턴을 환형패턴들의 표면에 반사물질을 도포하는 단계를 구비한 구성본 기술을 포함한 기술군은 현재 주로 CD, CD-R, DVD, 광디스크 등의 분야에 응용되어 제품화 되고 있다.본 기술이 위 응용분야의 기존 기술보다 뛰어난 장점 및 특징은 다음과 같다. - 첫째, 환형 셔터 미러는 반사면의 일부분이 전계의 인가 상태에 따라 선택적으로 변형되도록 하여 타겟쪽으로 진행하는 광빔의 일부를 분리·차단함으로써 광빔의 선속경을 용이하게 조절 - 둘째, 환형 셔터 미러는 증착 및 식각 등과 같은 반도체 제조공정들에 의하여 제조됨으로써 고도로 정밀하게 제작될 수 있음은 물론 대량생산을 용이하게 할 수 있음 - 셋째, 이종 광디스크용 광픽업장치는 광빔의 선속경을 가변하는 광셔터로서 광빔의 경로를 변경시키는 반사경 대신에 환형 셔터 미러를 이용하여 광빔의 경로를 변경시킴과 아울러 광빔의 선속경을 광디스크의 종류에 따라 변경시킴으로써 종류가 다른 광디스크들을 정확하게 억세스 할 수 있고 구성을 간소화 할 수 있음