일반기술

나노 인프린트용 몰드

- 광나노 프린트에 최적의 재료인 석영의 미세 나노 프린트용 몰드 제조 및 열나노 프린트에 최적의 재료인 SiC, Ta등의 미세 나노 프린용 몰드의 제조 기술● 기술의 우수성 - 나노 인프린트용 몰드 : SiC, 석영, SiO2, Si, Ta 각종 재료의 나노 인프린트용 극 미세 몰드 제공가능 - 석영제 나노 인프린트용 몰드,고해상 타입 NIM-80L RESO : 최소 치수 80nm! 미세하고 고정밀의 패턴을 제공가능 - 석영제 나노 인프린트용 몰드 고해상 타입 NIM-100D RESO : 고해상 타입에 닷판 등장. 최소 치수100nm! 미세하고 고정밀의 패턴을 제공가능 - 석영제 나노 인프린트용 몰드 표준 타입 NIM-PH시리즈 : 라인＆스페이스, 닷, 홀 패턴을 혼재하고 있어 실험용으로 최적 ● 기술 요약 - 광나노 프린트에 최적의 재료인 석영의 미세 나노 프린트용 몰드 제조 및 열나노 프린트에 최적의 재료인 SiC, Ta등의 미세 나노 프린용 몰드의 제조 기술● 사업성 - 광케이블, 휴대폰, 반도체 등의 첨단 산업에 적용가능 한 기술로써, 시장성은 매우 높다고 판단