일반기술

술폰아미드기를 포함하는 선형 니트록사이드계 자유라디칼 작용제와 이를 이용한 비닐계 고분자의 리빙 자유라디칼 중합방법

본 기술은 술폰아미드기를 포함하는 신규의 선형 니트록사이드계 자유 라디칼 작용제와 이를 이용한 비닐계 고분자의 리빙 자유 라디칼 중합방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 니트록시 라디칼을 포함하는 기본구조에 술폰아미드기가 결합되어 있는 신규구조의 니트록사이드계 자유 라디칼 작용제와 상기 신규 자유 라디칼 작용제를 비닐계 단량체와 자유 라디칼 개시제에 첨가 사용하여, 낮은 온도에서 리빙 자유 라디칼 중합이 가능하고 제조된 비닐계 고분자의 분자량 분포도(PDI)가 협소한 비닐계 고분자를 제조하는 리빙 자유 라디칼 중합방법에 관한 것이다.●본 특허기술은 비닐계고분자화합물을 합성하는데 사용하는 새로운 자유라디칼작용제에 대한 기술로 기술군의 발전방향에 부합되는 최신기술이나 경쟁기술이 존재하여 해당 기술분야를 선도하기에는 제약이 있을 수 있다고 판단되고, 기존기술에 대하여 공정개선정도가 좀 큰 것으로 판단 되었다.●본 기술은 새로운 공정개선 사항으로 기존시설을 이용하여 적용 가능한 것으로 되어 있어 상용화 가능성이 크고 적용 가능제품도 여러 가지 있으나 특허기술 도입에 대한 수요는 새로운 grade의 제품에 대한 응용분야를 찾아야 한다.