일반기술

고정밀 등온 가열로

●본 기술은 전구간 고정밀 등온 가열로에 관한 것으로, 히트파이프를 이용하여 전구간에 걸처 sub heating zone을 최소화 시키는 등온 가열로에 관한 것이다. 히트파이프는 이중관 및 이중판 구조를 이루며 이 두 관 및 판 사이의 공간이 히트파이프로써 작동하는 영역이다. 일반적인 히트파이프는 파이프의 한 부분에 열을 가하면 증기는 기화하고 상대적으로 낮은 온도 지역으로 이동한 후 응축하며 열을 전달한다. 그리고 응축된 증기는 벽에 설치된 외벽의 윅을 따라 모세관 현상에 의하여 증발부로 귀환하며 이에 따라 열을 축방향으로 이동하게 된다. 이에 따라서 등온성 또한 매우 우수하므로 고정밀 등온 열처리 시스템에 적용 한 것이다.●일반적인 튜브 가열로는 온도편차를 최소화하기 위해 uniform zone을 위한 sub zone을 형성하여, 온도구배를 줄이고 있다. ●500℃~800℃의 온도구간에서 히트파이프 내부 ±0.1℃ 미만, 열처리노 내부 ±1℃의 고정도 등온성 유지 가능●본 기술은 고정밀 등온 열처리를 위해 가열로에 히트파이프의 등온성을 적용 하였다. 열처리 제품에 따라 환형 또는 판형 구조의 외측 면에 가열원을 설치하고 내측 부분세서 응축이 발생함에 따라 등온벽면을 이루게 되며 피가열체의 등온 가열원이 되도록 함으로써 고정밀 등온 가열 분위기를 만들게 된다.●국내외 시장 규모 : 국내 800억원●반도체부품 등의 고부가가치용 고정밀 등온열처리 적용 유망