일반기술

Post plasma를 이용한 질화 방법 및 장치

NPPN (New Post Plasma Nitriding) 질화 기술은 기존 이온 질화와 달리 시편 자체에 플라즈마를 형성시키지 않고 외부의 장치에서 질소 가스를 활성화시켜 플라즈마 질화 시킬 수 있는 신개념의 이온 질화 기술이다. 본 기술은 일본이 자랑하는 NDK와 CEMM의 이온질화장비와 비교하여 우수한 성능을 보이고 있다. 특히, 일본의 Parker 열처리에서 수년째 관심을 가지고 공동 연구 등을 수행하고 있는 장비이다. 따라서, 독자 기술에 대한 기술 보호를 위해 일본내 특허 등록도 진행 중이다.종래 기술의 단점 - 기존 이온질화기술이 시편 자체에 플라즈마를 발생시켜 질화를 수행하여서, 시편자체의 크기 및 모양에 따라 불균일할 수 있는데 반해 시편 외부의 보조 음극에 글로우를 형성시키서 질소 가스를 활성화 시키므로서, 기존 이온질화의 문제점을 최소화시킬 수 있으며, 특히 높은 표면적의 보조 음극에서 발생하는 고밀도 이온에 의해 빠른 질화능과 높은 균일도와 품질 특성을 얻을 수 있음 기술의 우수성 - 피처리물에 아킹의 발생 염려가 없어 장입이 용이하며 생산성 높음 - 스퍼터링 현상이 없어 표면조도의 변화 없음 (Ra = 0.02 ㎛ 가능) - 온도분포가 이온질화시 보다 균일 - 화합물층 생성의 제어가 용이:. 1 시간 이내에 탄소강 20 ㎛의 화합물층의 형성이 가능하며, 금형강에 대한 화합물층 free 경면 질화 가능 - 침류질화 (마찰계수 0.2), 산질화 공정, SUS의 내식성 유지 표면경화기술 (S-phase 질화) 확보 - 고온 DLC 기술과 복합화 공정 개발 완료로 마찰 계수 0.05 제품 처리 가능함기술 요약 - 이온질화의 고품질과 가스질화의 생산력을 복합화한 신개념의 질화 기술