일반기술

화학원료물질 증기압 측정기술

본 기술은 반도체 및 디스플레이 제조 핵심공정인 화학증착(CVD) 공정에 사용되는 원료물질의 경우 같은 물질이라도 여러 조건에 따라 증착공정상에서 다른 거동을 나타내는 경우가 많다. 즉 같은 화합물을 사용할 경우에도 원료물질의 증기압의 차이가 나타나기 때문에 일정하게 정해진 원료를 투입하였을 때에도 박막의 질이 차이가 날 수 있다. 따라서 박막의 질이 저하되는 것은 생산수율 감소와 생산비용 증가의 원인이 된다. 반도체 및 디스플레이 등 진공기술과 박막증착공정이 사용되는 산업에서는 고진공과 상온 이상의 heating등의 특수한 조건으로 인해 원료물질의 증기압에 대한 데이터가 구체적으로 구축되어 있지 않은 상황이며 유기금속의 경우 공기 증에 노출이 불가능하기 때문에 실제적으로 이러한 원료물질의 증기압을 측정할 만한 기술 및 장비가 없는 상태이다. 따라서 우수한 품질의 박막을 제조하기 위해서는 원료의 정확한 투입량을 결정해야하며 이를 위해 공급되는 원료의 정확한 열역학적 기초 데이터를 얻기 위한 원료물질의 증기압을 측정하는 장비를 개발함증기압측정 기술개발로 인한 다양한 화학원료물질 쉽게 개발가능공기노출이 불가능한 다양한 화학원료물질 측정가능표준화된 절차 및 데이터를 제공 가능반도체 및 디스플레이 수율 및 생산성 증대상업화된 장비가 시장에 없어 시장성을 가늠하기는 어려우나 판매시 대당 5000만원 이상 고가로 판매가능