일반기술

산소 플라즈마 및 열처리를 이용한 ITO 표면처리방법 및 이 방법에 의해 제조된 OLED소자

<기술개요>ITO의 표면에 산소의 농도를 크게 향상되어 일함수를 상승시키고, 유기발광층에서의 홀과 전자의 재결합율을 향상시킴으로써 내부양자효율을 높이고, OLED분야의 문제점인 재료의 수명문제를 개선할 수 있는 기술임.<시장성>투입비용 대비 효과적 측면에서 기존의 OLED 발광 수명 문제 극복 기술 중 높은 경쟁력을 가지고 있다고 판단됨. 박막공정에서 이미 상용화된 산소플라즈마 기술 및 열처리 기술을 조합함으로써 저렴한 투자비용으로 기존의 공정 대비 우월한 효과를 보여줄 수 있음. 디스플레이 디바이스의 효율 향상에 많은 관심을 가지고 있는 기업 입장에서 특성 향상을 보여준 본 기술은 적용 및 공정의 다변화에 영향을 미칠 수 있을 것으로 예상OLED의 효율향상의 장점 및 기존 공정의 일부 변경으로 목적을 달성할 수 있는 기술로 기술적인 장점에 대한 사업 적용가능성은 높음. 현재 양산적용중인 산소 플라즈마를 이용한 처리방법은 약 5분의 공정시간이 필요하나, 본 기술은 더 높은 효율의 결과를 얻으면서도 약 2~3분의 공정시간으로 단축할 수 있어 충분한 사업성이 있다고 판단기존의 디스플레이 장비업체들의 경우, 엘시디 장비에서 유기EL양산 장비의 개발을 서두르고 있는 실정임. 본 기술이 구체화되는 경우, 장비업체와의 co-work이 원활하게 이루어질 것으로 판단됨.