일반기술
도전성 중공체의 내부표면에의 이온주입법
진공공기 중에서 소정의 방법으로 플라즈마를 발생시키고, 안에 설치되어 있는 피처리물에 대하여 고전압 펄스바이어스전압을 인가(印加)하므로써, 3차원입체물외표면전면을 동시에 이온주입표면개질할 수가 있다. 또한 여러개를 동시에 처리할 수가 있다. 나아가 도전성의 중공체(中空體)내부를 플라즈마분위기로 하여, 중공체에 대하여 고전압 펄스바이어스전압을 인가하므로써 중공체내부표면의 이온주입표면개질을 할 수가 있다.이온주입표면개질법은 재료에 내식성, 내마모성 등의 기능을 부여하는 방법으로 알려져 있다. 그러나 처리비가 많이 든다는 것, 3차원 입체물 등 복잡형상물에의 적용은 곤란하다는 등의 이유로 기계금속관련산업에서는 많이는 사용되고 있지 않다. 발명은 3차원입체물, 튜브내 표면에의 이온주입표층개질을 가능하게 하고, 또한 종래법보다 처리코스트를 크게 줄일 수가 있다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 화학공정
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2000-04-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.