일반기술

스프레이식 기판 처리 장치

본 기술은 스프레이식 기판 처리 장치에 관한 것으로, 특히, 각종 약액을 이용한 반도체 소자 또는 각종 디스플레이 소자 등의 기판에 대한 습식 처리 공정 중에, 약액 방울의 낙하에 의하여 기판에 가해지는 물리적 충격을 최소화함으로서, 기판상의 감광막 패턴 등이 손상되는 것을 방지할 수 있는 스프레이식 기판 처리 장치에 관한 것이다. 종래 기술에 따른 스프레이식 기판 처리 장치를 사용하여 기판에 대한 습식 처리 공정을 진행하면, 상기 약액 공급 스프레이로부터 공급되는 약액 방울이 낙하하면서 기판상에 물리적 충격을 가하게 되며, 이 때문에 기판상에 형성된 감광막 패턴 또는 각종 박막 구조 등이 손상되는 문제점이 발생한다. 최근 들어 반도체 소자 및 디스플레이 소자가 고집적화, 초미세화됨에 따라, 기판상의 감광막 패턴 또는 각종 박막구조가 더욱 얇아지고 미세화되고 있는 바, 상기 약액 방울의 낙하에 따른 물리적 충격에 의해 기판상에 형성된 상기 감광막 패턴 등이 손상되는 문제점이 더욱 크게 발생하게 되었다. 본 기술은 상술한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여, 약액을 이용한 기판에 대한 습식 처리 공정 중에, 약액 방울의 낙하에 의하여 기판에 가해지는 물리적 충격을 최소화함으로서, 기판상의 감광막 패턴 등이 손상되는 것을 방지할 수 있는 스프레이식 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다. 본 기술은, 소정 공간을 정의하는 챔버와, 상기 챔버 내에서 기판을 이송하는 이송 장치와,상기 이송 장치 상측에 설치되어 약액을 상기 기판으로 공급하는 하나 이상의 약액 공급 스프레이와, 상기 챔버 내의 공기를 상향 유동시키는 공기 유동 수단과, 상기 공기 유동 수단의 아래에 서로 대향되게 설치되고 각각 하방으로 공기를 공급하는 2개의 에어커튼 발생용 공기 공급장치와, 상기 챔버 상측에 형성되는 배기구를 포함하는 스프레이식 기판 처리 장치로 구성되어 있다. 본 기술은 기판에 대한 습식 처리 공정 중에 약액 방울의 낙하에 의해 기판상의 감광막 패턴 또는 박막 패턴 등이 손상되는 문제점을 최소화할 수 있고, 반도체 소자 또는 디스플레이 소자 등의 양산을 가능케 하는 스프레이식 습식 처리 장치의 장점을 살리는 동시에, 최종 형성된 소자의 품질 및 신뢰성을 크게 향상시킬 수 있다.