일반기술

약액 분사 장치

본 기술은 약액 분사 장치에 관한 것으로서, 특히 기판에 균일하게 약액이 분사되도록 하는 약액 분사 장치에 관한 것이다. 종래 기술에 의한 약액 분사 장치는, 노즐 팁에서 분사되는 약액의 분사압이 일정하더라도 기판 상에 약액이 분사되는 부분과 그렇지 않은 부분이 발생하여 기판 전체에 약액이 골고루 균일하게 분사되지 않게 된다. 이를 방지하기 위해 기판을 이동 방향에 수직으로 진동(oscillation) 하고 있으나, 노즐 팁에서 분사되는 약액에 대한 사각 지점이 여전히 존재하게 되는 문제점이 있다. 본 기술의 목적은, 노즐 팁과 기판 사이에서 노즐팁에서 분사되는 약액을 받아 이를 보다 미세한 간격으로 기판에 약액을 분사하는 샤워 헤드를 구비함으로써 기판 상에 약액이 분사되지 않은 사각 지점을 최소화하여 기판 전체에 균일하게 약액을 분사할 있는 약액 분사 장치를 제공하는데 있다.본 기술에 따른 약액 분사 장치에 있어서, 각각 일정 간격으로 배치되어 약액을 분사하는 다수개의 노즐 팁과, 다수개의 노즐 팁에 대해 아래에 배치된 기판과, 노즐 팁과 기판 사이의 공간에 배치되며 노즐 팁보다 좁은 간격으로 약액을 분사하는 샤워 헤드로 이루어져 있다. 본 기술은, 노즐 팁에서 분사되는 약액을 샤워 헤드의 다수개의 홀에서 보다 미세하고 좁은 간격으로 기판에 분사함으로써 노즐 팁에 의해서 약액이 분사되지 않은 사각 지점을 샤워 헤드를 통해 줄여 기판 전체에 균일하게 약액을 분사할 수 있다. 따라서, 기판 전체에 균일하게 약액을 분사할 수 있어 식각 및 세정 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.