일반기술

습식처리된 기판의 비활성 영역 제거 장치

본 기술은 습식처리된 기판의 비활성 영역 제거 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 습식처리공정을 거쳐 표면에 액체가 코팅되어 있는 기판 중 비활성 영역의 약액을 닦아 내는데 있어서 일정한 이동마진을 두고 움직일 수 있도록 하여 활성영역과 비활성영역간의 경계가 흐트러지는 현상을 최대한 억제할 수 있도록 한 습식처리된 기판의 비활성 영역 제거장치에 관한 것이다. 종래의 비활성 영역의 약액 제거 장치에 있어서는 외부에서 공급되는 비활성 가스의 분출 압력에 의해 비활성 영역인 테두리부의 약액을 제거하는데, 이러한 방식은 정밀도가 떨어져 정확한 위치에서 제거가 힘들어지고, 또한 고압의 가스를 사용하게 되어 실제로 제거된 약액이 배출구를 통해 모두 외부로 배출되는 것이 아니라 기판의 중심부인 활성영역으로 튀어들어 올 수 있어 후에 활성영역에 일정한 결함(defect)을 유발할 우려가 있다. 본 기술은 목적은 약액의 분사 후 비활성영역과 활성영역의 경계를 명확하게 구분할 수 있도록 하는 비활성 영역 제거 장치를 제공하는데에 있다.본 기술에 따른 습식처리된 오엘이디 기판의 비활성 영역 제거장치는 제거되는 오엘이디 기판의 테두리 영역과 평행한 방향과 수직한 방향으로 움직일 수 있고, 불활성가스 분사홀과 EBR용액 분사홀이 각각 형성되어 있으며, 그 하부에는 평행방향과 수직방향으로 자유롭게 움직일 수 있도록 하는 축이 결합되어 있는 것을 특징으로 한다. 본 기술에 따른 습식처리된 오엘이디 기판의 비활성 영역 제거장치에 의하면 약액이 묻어 있는 활성영역과 약액이 제거되는 비활성영역의 경계가 명확해지게 되며, 비활성영역 제거장치에서 분사되는 불활성가스와 EBR용액이 활성영역으로 날라들어가는 것을 최대한 억제할 수 있게 된다.