일반기술

오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법

본 기술은 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법에 관한 것이다. 종래와 같은 방식으로 격벽을 형성하는 경우, 공정 조건의 미세한 변화에 의해 역테이퍼 구조의 각도에 큰 영향을 미치고, 또한 격벽 하부로 갈수록 그 폭이 점점 좁아져 무너지게 되는 불량을 야기할 수 있다. 실제로, 오엘이디 디스플레이 소자를 만드는 공정에서 가장 불량률이 높은 부분이 음극 격벽 형성 부분이다. 따라서, 안정적인 구조를 가지는 격벽을 형성하는 방법이 요구되고 있다. 본 기술의 목적은, 엑시머 레이저 어닐링을 이용하여 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽을 형성함으로써 격벽이 안정적인 구조를 갖도록 한 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법을 제공하는 데에 있다.본 기술에 따른 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법은, 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법에 있어서, 기판 상에 실리콘 질화막을 형성하는 단계; 상기 실리콘 질화막의 적어도 1구역 이상으로 구별되는 어닐링 영역에 서로 다른 세기로 엑시머 레이저 어닐링을 수행하는 단계; 및 상기 엑시머 레이저로 어닐링된 부분만 남도록 상기 실리콘 질화막을 습식 식각하는 단계로 구성되어 있다. 본 기술에 의하면, 엑시머 레이저 어닐링을 이용하여 격벽을 형성함으로써, 격벽이 안정적인 오버행 구조를 갖도록 할 수 있다. 이에 따라, 포토 마스크를 이용하여 형성한 기존의 격벽에 비해, 구조적으로 보다 견고하고 음전극층을 보다 확실하게 분리함으로써 격벽 역할을 보다 안정적으로 수행할 수 있는 이점이 있다.