일반기술
브이엠디구조및그제조방법
본 기술은 브이엠디(VMD) 구조 및 그 제조방법에 관한 것이다.종래 브이엠디(VMD)는 제조공정이 매우 복잡하며 75˚각도에서 증발시켜 팁을 형성하는 과정에서 높은 난이도의 기술을 요하므로, 생산수율이 매우 낮고, 특히 공정수가 많아 단가도 높은 문제점이 있었다. 본 기술은 팁형성을 반응성 이온 에칭공정에 의해 테이퍼 에칭으로 형성함으로써, 제조공정이 간단하여 생산수율을 높일 수 있고, 제조공정을 단순화할 수 있어 단가를 낮출 수 있다.유리기판상에 투명전극이 형성되고, 그 투명전극 중앙에는 형광층이 형성됨과 아울러 양쪽에는 절연층과 게이트 전극이 차례로 형성되고, 다른 유리기판상에 도전성 캐소드층과 팁이 연속 형성되어 두 유리기판이 진공상태로 합착되어 구성되는 것을 특징으로 한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-02
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.