일반기술

체감 센서의 상부구조 제조 방법

본 기술은 체감센서의 상부구조 제조방법에 관한 것으로, 열전쌍의 내부저항을 최적화하여 열노이즈를 줄임으로써 체감센서의 감도특성을 향상시키기 위한 것이다.이를 위해 본 기술은 기판상에 열산화막, 질화막, 산화막을 차례로 형성하는 공정과, 산화막위에 LPCVD방법에 의해 다결정실리콘을 형성하는 공정, 다결정실리콘에 이온을 주입하고 열처리하는 공정, 다결정실리콘을 습식식각에 의해 선택적으로 식각하여 제1열전대를 형성하는 공정, 제1열전대를 이루는 다결정실리콘을 재결정화시키는 공정, 제1열전대가 형성된 기판 상부의 소정영역에 제2열전대를 형성하는 공정, 기판 전면에 보호막을 형성하는 공정, 기판 후면을 이방성식각하여 다리아프레임을 형성하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 체감센서의 상부구조 제조방법을 제공한다.본 기술은 펄스 레이저를 이용하여 열전대인 다결정실리콘을 재결정화시킴으로써 열전대의 내부저항을 낮추어 열노이즈를 최소화하여 열전대의 출력을 크게 할 수 있다.본 기술은 열전쌍의 내부저항을 최적화하여 열노이즈를 줄임으로써 체감센서의 감도특성을 향상시키는데 그 목적이 있다.이를 위해 기판상에 열산화막, 질화막, 산화막을 차례로 형성하는 공정과, 산화막위에 LPCVD방법에 의해 다결정실리콘을 형성하는 공정, 다결정실리콘에 이온을 주입하고 열처리하는 공정, 다결정실리콘을 습식식각에 의해 선택적으로 식각하여 제1열전대를 형성하는 공정, 제1열전대를 이루는 다결정실리콘을 재결정화시키는 공정, 제1열전대가 형성된 기판 상부의 소정영역에 제2열전대를 형성하는 공정, 기판 전면에 보호막을 형성하는 공정, 기판 후면을 이방성식각하여 다이아프레임을 형성하는 공정으로 이루어진다.