일반기술

마그네트론의 필라멘트

본 기술은 마그네트론에 관한 것으로, 특히 필라멘트형상을 개선하여 라인노이즈를 저감할 수 있도록 한 마그네트론의 필라멘트에 관한 것이다.작용공간에 방사된 전자는 양극부인 베인과 음극부인 필라멘트 사이에 걸린 전계패턴에 의한 운동을 하게 되는데 평면상에서 각진 형태인 베인(1)과 원통형상의 필라멘트가 이루는 전계패턴에 의한 운동을 하게 됨에 따라 작용공간상의 균일하지 않은 전계패턴을 경험하고 이에 따라 전자분포는 전하의 밀도가 각부에 따라 달라짐을 의미하고 전하밀도에 따른 전하의 운동이 작용공간에서 전계와 자계에 다른 운동에 덧붙여지게 되어 일반적으로 라인노이즈라 부르는 30KHz 내지 1GHz의 노이즈가 나오게 되는 문제점이 있었다.본 기술의 목적은, 양극부를 이루는 베인과 음극부를 이루는 필라멘트에 걸리는 전계패턴을 균일하게 하여 라인노이즈를 저감시킬 수 있도록 한 마그네트론의 필라멘트를 제공하려는 것이다.이러한 본 기술의 목적은, 방사상으로 복수개 배열되어 동작주파수를 결정해주는 공진회로를 만들어주는 베인과, 그 중심축상에 위치하여 베인의 내측단에 대응하며 열전자를 방출하면서 베인과 대향하는 부분에서 특정 전계형상을 만들어주는 필라멘트과 필라멘트에서 방출된 열전자가 작용공간에서 사이클로이드운동을 할 수 있는 자계를 인가시켜주는 자극으로 구성된 마그네트론에 있어서, 필라멘트의 베인에 대향하는 부분의 형상을 직선부로 형성하여 작용공간에 형성되는 전계형상이 균일하게 되도록 함을 특징으로 하는 마그네트론의 필라멘트를 제공하는 것에 의하여 달성된다.