일반기술

i-선 감광막 사진전사공정 기술

“반도체 Foundry 운영사업' 실리콘 공정분야의 byproduct로 확보된 i-선 사진전사공정 노하우 기술을 요구기업에 전수하고자 함o 반도체공정운영팀에서는 “반도체 Foundry 운영사업'의 byproduct인 Si Process Integration 분야 중 사진전사공정기술을 확보하여 원내.외 각종 반도체소자 제조공정에 기본 단위공정기술로 사용하고 있음. o 상기 사진전사공정 기술은 특히 광감막에 마스크의 형상을 전사시키는 일련의 여러 단계공정으로 구성되어 있으며, 여기에는 핵심되는 노광장비인 광학스테퍼 장비를 중심으로 감광막 도포 및 현상 장비, 선폭측정장비 등이 적용된다. 또한 상기 공정기술은 사용하는 감광막과 현상액등 사용하는 화학약품에 따라 각각의 적정 공정조건을 갖으므로 어떤 약품에 대한 적정 공정조건 확립을 위해서는 관련 분야의 많은 경험과 노하우 기술이 요구되는 분야이다.ㅇ 기술전수 대상기업에서는 기 생산중인 i-선 감광막에 대한 공정기술의 미확보로 인해 양질의 감광막을 생산하고도 납품업체에서 요구하는 각종 규격을 제시하는데 어려움이 있는 실정임. 금번 기술이전을 통하여 최적의 공정조건을 확립함으로서 요구하는 제품의 규격치를 만족시킴은 물론 나아가서는 더욱 개량된 감광막 물질 개발에도 활용할 수 있을 것으로 판단됨.① i선 감광막 사진전사공정 기술 - 적정 감광막 도포 및 열처리공정 기술 - 적정 I-선 스테퍼 노광공정 기술 - 적정 감광막 현상공정 기술 - 적정 감광막 선폭측정 기술 ② 관련 공정기술에 대한 시제품 검증 - 두께, 선폭의 측정 자료 - 감광막 형상에 대한 분석 기술