일반기술

플라즈마 이온 주입 및 증착용 플라즈마 처리 장치

본 기술은 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반응기 내에서 플라즈마를 이용하여 이온 주입이나 증착을 수행하는 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다.본 기술은 플라즈마를 이용하여 소정의 기체(substrate)에 이온을 주입하거나 소정 물질을 증착하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 반응기, 반응기 내부 공간에 플라즈마를 형성하는 플라즈마 발생원, 반응기 내부에서 기체를 지지하는 시료대, 기체가 지지되는 시료대의 배면측반응기 벽면에 설치되며, 시료대를 반응기에 대해 지지 및 절연하는 동시에 그 내부가 시료대에 공급하는 고전압 전원을 도입하는 통로로 작용하는 고전압 피드쓰루 및 고전압 피드쓰루를 통해 시료대에 고전압 전원을 공급하는 전원부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치를 제공한다.본 기술은 시료대와 반응기의 절연 구조의 단순화를 꾀할 뿐만 아니라, 반응기로인입된 고전압 인입용 도선에 의해 플라즈마의 영향을 최소화하고 이에 따라 유효한 플라즈마 부피를 최대화하고 불필요한 전력의 손실을 억제하는 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.또한, 전술한 구조를 갖는 플라즈마 처리 장치에서 시료대에 장착되는 시편의 온도를 직접 측정함으로써 온도 제어의 정밀도를 높일 수 있는 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.이를 위해 플라즈마를 이용하여 소정의 기체(substrate)에 이온을 주입하거나 소정 물질을 증착하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 반응기, 반응기 내부 공간에 플라즈마를 형성하는 플라즈마 발생원, 반응기 내부에서 기체를 지지하는 시료대, 기체가 지지되는 시료대의 배면측 반응기 벽면에 설치되며, 시료대를 반응기에 대해 지지 및 절연하는 동시에 그 내부가 시료대에 공급하는 고전압 전원을 도입하는 통로로 작용하는 고전압 피드쓰루 및 고전압 피드쓰루를 통해 시료대에 고전압 전원을 공급하는 전원부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치를 제공한다.