일반기술

방전 안정성이 우수한 중공 캐소드 방전건

본 기술은 중공 캐소드 방전건(HOLLOW CATHODE DISCHARGE GUN)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 장시간 동안 방전 유지가 가능한 중공 캐소드 방전건에 관한 것이다. 본 기술은 방전 공간을 포함하는 중공을 구비하고, 일단에 중공으로 가스를 유입하기 위한 제1 개구부와 타단에 중공으로부터 가스를 유출하기 위한 제2 개구부를 갖는 튜브, 튜브에 길이 방향으로 삽입되는 필라멘트 및 금속 튜브내의 필라멘트 주위에 장착되며, 필라멘트의 가열에 의해 2차 전자를 발생하며, 소정 간격으로 이격되는 최소한 둘 이상의 전자 방사 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공 캐소드 방전건을 제공한다. 본 기술에 따르면, 안정적인 방전 유지 특성을 갖는 중공 캐소드 방전건을 제공할 수 있다.본 기술은 장시간 동안 안정적으로 방전을 유지하는 중공 캐소드 방전건을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 중공 캐소드 방전건을 방전 가스 발생원으로 채용함으로써 종래에 비해 높은 생산성을 갖는 증착 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.이를 위해 방전 공간을 포함하는 중공을 구비하고, 일단에 상기 중공으로 가스를 유입하기 위한 제1 개구부와 타단에 상기 중공으로부터 가스를 유출하기 위한 제2 개구부를 갖는 튜브, 튜브에 길이 방향으로 삽입되는 필라멘트 및 금속 튜브내의 필라멘트 주위에 장착되며, 필라멘트의 가열에 의해 2차 전자를발생하며, 소정 간격으로 이격되는 최소한 둘 이상의 전자 방사 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공 캐소드 방전건을 제공한다.또한 방전 공간을 포함하는 중공을 구비하고, 일단에 중공으로 가스를유입하기 위한 제1 개구부와 타단에 중공으로부터 가스를 유출하기 위한 제2 개구부를 갖는 튜브, 튜브에 길이 방향으로 삽입되는 텅스텐 필라멘트 및 금속 튜브내의 필라멘트 주위에 장착되며, 필라멘트의 가열에 의해 2차 전자를 발생하는 전자 방사 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공 캐소드 방전건을 제공한다.또한 중공 캐소드 방전건이 장착되며 기밀 유지 가능하고 내부에 애노드를 구비하는 증착 챔버, 중공 캐소드 방전건에서 발생한 방전 가스를 증착 챔버내의 애노드로 유도하기 위한 제어 시스템 및 상기 중공 캐소드 방전건과 애노드에 바이어스 전압을 인가하기 위한 전원 회로부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치를 제공한다.