일반기술
스퍼터링에 의해 기판상에 박막을 형성하는 방법
본 발명은 산소 음이온이 기판상의 박막내로 입사되는 것을 최소화시키고, 박막의 에피택시 정도를 증가 시킬 수 있는, 스퍼터링에 의해 기판상에 박막을 형성하는 방법에 관한 것이다.; 본 발명의 방법은 진공조내에 놓여진 기판의 상부에 그리드를 설치하고, 상기 그리드에 (+) 바이어스를 가하면서, 산소 플라즈마를 포함하는 플라즈마를 이용하여 기판상에 스퍼터링 증착을 수행한다. 플라즈마를 발생시킬 수 있고 내부에서 산화물 타깃을 구비하는 진공조내에 기판을 배치하는 단계와; 상기 기판의 상부에 그리드를 설치하여, 상기 기판이 상기 그리드에 의해 상기 타깃으로부터 가리워지도록 하는 단계와; 상기 그리드에 (+)바이어스를 가하면서, 상기 진공조내에서 산소 플라즈마를 포함하는 플라즈마를 발생시켜서 상기 기판상에 산화물을 스퍼터링 증착하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 기판상에 박막을 형성하는 방법.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 소자 (B63)
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-08-10
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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